Wykład

Wykład

5

5

Grupy ochronne funkcji:

Grupy ochronne funkcji:

Hydroksylowej

Hydroksylowej

Eter metylowy

Eter metylowy

Eter

Eter metoksymetylowy

metoksymetylowy MOM

MOM

Eter

Eter metoksyetoksymetylowy

metoksyetoksymetylowy MEM

MEM

Eter

Eter benzyloksymetylowy

benzyloksymetylowy BOM

BOM

Eter

Eter tetrahydropiranylowy

tetrahydropiranylowy THP

THP

Ochrona grupy:

Ochrona grupy:
Karbonylowej

Karbonylowej

Acetale

Acetale

acykliczne

acykliczne
cykliczne

cykliczne

Karboksylowej

Karboksylowej

ester metylowy

ester metylowy

1

1

Eter

Eter tetrahydropiranylowy

tetrahydropiranylowy THP

THP

Eter allilowy

Eter allilowy Allyl

Allyl

Eter benzylowy

Eter benzylowy Bn

Bn

Etery

Etery sililowe

sililowe

Estry

Estry

Cykliczne acetale

Cykliczne acetale

metylenowy

metylenowy

izoproppylidenowy

izoproppylidenowy

benzylidenowy

benzylidenowy

Protective

Protective Groups

Groups in

in Organic

Organic Synthesis

Synthesis,

,

Wiley

Wiley T.W.Green

T.W.Green,

, P.G.M.Wuts

P.G.M.Wuts

ester metylowy

ester metylowy
ester

ester tt--butylowy

butylowy

ester benzylowy

ester benzylowy
2

2--Alkyl

Alkyl--1,3

1,3--oxazoline

oxazoline

Aminowej

Aminowej

Boc

Boc
Cbz

Cbz, Z

, Z

Fmoc

Fmoc
karbaminian

karbaminian allilu

allilu

N

N--ftalimid

ftalimid

Ochrona innych funkcji

Ochrona innych funkcji

Ochrona funkcji hydroksylowej.

Rozwa

ż

ania ogólne

RO

OMe

Etery

Acetale

Etery sililowe

imidazol

odblokowanie za pomoc

ą

trimetylojodosilanu

odblokowanie za pomoc

ą

kwa

ś

nej hydrolizy

odblokowanie za pomoc

ą

jonów fluorkowych

ROH

ROH

ROH

TMSCl

CH

3

-X

Et

3

N

MOM-Cl

Et

3

N

RO

CH

3

RO

SiMe

3

2

http://www.organic-chemistry.org/

Estry

imidazol

R'COCl

pirydyna

jonów fluorkowych

odblokowanie za pomoc

ą

redukcji, hydrolizy kwa

ś

nej

lub zasadowej

ROH

R'

RO

O

RO

CH

3

RO

CH

2

H

RO

CH

2

Z

Z= -OR

Z= -Ph

Me

RO

O

Z

Z= -OR

CH

2

Ph

t-Bu

Z= -Alkil

CH

2

Ph

3

CH

2

CH

2

OMe

CH

2

CH

2

SiMe

3

Ph-4-OMe

Ph-2-NO

2

CH

2

Ph-4-OMe

CH

2

Ph-2-NO

2

CH

2

CCl

3

CH

2

CH=CH

2

Ochrona funkcji hydroksylowej

Etery

Eter metylowy

Trudne do usuni

ę

cia, za wyj

ą

tkiem ochrony funkcji hydroksylowej w

fenolach

Zakładanie grupy ochronnej:

-Me

2

SO

4

, NaOH, Bu

4

N

+

I

-

, rozpuszczalnik organiczny wyd. 60-90%

-CH N , silica

ż

el, 0-10

o

C, 100%

R

OH

R

OMe

4

2

4

4

-CH

2

N

2

, silica

ż

el, 0-10

o

C, 100%

-CH

2

N

2

, HBF

4

, CH

2

Cl

2

, Et

3

N, 25

o

C, 1h, 95%

-NaH, MeI, THF (cz

ę

sto te

ż

u

ż

ywa si

ę

Ag

2

O zamiast wodorku)

Usuwanie grupy ochronnej

-Me

3

SiI, CHCl

3

, 25

o

C, 6h, 95%

-Me

3

SiCl, NaI, CH

2

Cl

2

, CH

3

CN, 80-100%

-BBr

3

, NaI, 15-C-5 (w tych warunkach nie ulegaj

ą

rozci

ę

ciu estry

metylowe)

Usuwanie grupy ochronnej

Me

B

B

Br

Me

+

R

O

R

1

Si I

Me

Me

Me

..

R

O

R

1

Si

Me

Me

Me

+

+

I

R-I

R

1

-I

R

1

-OH

R-OH

5

O

B

Br

Br

Br

:

O

Me

B

Br

Br

O

Me

B

Br

Br

Br

_

+

+

_

O

B

Br

Br

+

2

OH

CH

3

-Br

H

2

O

R

O

CH

2

R

1

R

1

Stosowany skrót

OMe

OCH

2

CH

2

OMe

SMe

OCH

2

Ph

BOM-OR

MOM-OR

OCH

2

Ph-p-OMe

OCH

2

Ph-o-OMe

PMBM-OR

GUM-OR

O-t-Bu

MEM-OR

MTM-OR

Usuwanie bloku

H

+

Hg

+2

, Ag

+

H

2

/Pd

[O] DDQ

[O] CAN

H

+

Zn

+2

, TiCl

4

6

OCH

2

CH

2

OMe

O-CH

2

CCl

3

Zn , TiCl

4

Zn-Cu lub Zn-Ag

R

O

Me

R

1

Ph

Bn-OR

R

1

Stosowany skrót

Usuwanie bloku

OEt

EE-OR

H

+

t-Bu

t-Bu-OR

H

+

H

2

/Pd

THP

THP-OR

H

+

Eter metoksymetylowy MOM

Zakładanie grupy ochronnej:

- MeOCH

2

Cl, NaH, THF lub CH

2

Cl

2

, i-Pr

2

EtN

UWAGA eter chlorometylo-

metylowy jest odczynnikiem o silnym działaniu kancerogennym

- CH

2

(OMe)

2

, TsOH, LiBr, 9h, RT, 71-100%

Usuwanie grupy ochronnej

-

ś

lady st

ęż

onego kwasu solnego, MeOH, 62

o

C, 15 min

- Me

3

SiBr, CH

2

Cl

2

, 0

o

C, 8-9h, 80-97% w tych warunkach estry s

ą

stabilne

Zablokowane alkohole o ró

ż

nej rz

ę

dowo

ś

ci ulegaj

ą

odblokowaniu w

warunkach hydrolizy kwa

ś

nej według nast

ę

puj

ą

cego porz

ą

dku:

R

OH

R

OCH

2

OMe

7

warunkach hydrolizy kwa

ś

nej według nast

ę

puj

ą

cego porz

ą

dku:

I

o

(~30h) <

II

o

(~8h) <

III

o

(0,5-2h)

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

http://www.organic-chemistry.org/

Eter metoksyetoksymetylowy MEM

Zakładanie grupy ochronnej:

- MeOCH

2

CH

2

OCH

2

Cl,NaH, THF lub CH

2

Cl

2

, (i-Pr)

2

EtN, 25

o

C, 3h, ilo

ś

ciowo

- MEMN

+

Et

3

Cl-, CH

3

CN, reflux 30 min, >90%

Usuwanie grupy ochronnej

- ZnBr

2

, CH

2

Cl

2

, 25

o

C, 2-10h, 90%

- Me

3

SiCl, NaI, CH

3

CN, -20

o

C, 79%

-

usuwa grup

ę

MEM w obecno

ś

ci takich grup ochronnych jak

R

OH

R

OCH

2

OCH

2

CH

2

OMe

8

-

usuwa grup

ę

MEM w obecno

ś

ci takich grup ochronnych jak

THP i MEM na zawadzonych drugorz

ę

dowych grupach

hydroksylowych

S

B

S

Br

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

Me

Br

S

B

S

Br

THPO

O

OMEM

THPO

O

OH

CH

2

Cl

2

, -78

o

C

MEM

MEM

9

O

O

OMe

R

2

R

1

ZnBr

2

(7equiv)

CH

2

Cl

2

, RT, 3h

Y 72%, 0.2mmole

skala

O

Zn

O

Me

Br

Br

O

R

2

R

1

O

R

2

R

1

Br

O

Br

R

2

R

1

+ H

2

O

O

OH

R

2

R

1

+ H

2

O

OH

R

2

R

1

-CH

2

=O

Eter benzyloksymetylowy BOM

Zakładanie grupy ochronnej:

- PhCH

2

OCH

2

Cl, (i-Pr)

2

EtN, 10-20

o

C, 12h, 95%

Usuwanie grupy ochronnej

- H

2

, 1atm, Pd-C, EtOAc-heksan, 68%

- Na lub Li, NH

3

, EtOH

R

OH

R

OCH

2

OCH

2

Ph

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

10

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

Zastosowanie podstawionego ró

ż

nymi podstawnikami pier

ś

cienia

aromatycznego zmienia charakter grupy ochronnej i umo

ż

liwia odblokowania

funkcji alkoholowej za pomoc

ą

innych czynników, takich jak DDQ, lub

ś

wiatło.

Eter tetrahydropiranylowy THP

Zakładanie grupy ochronnej:

- DHP, TsOH, CH

2

Cl

2

, 20

o

C, 1,5h, 100%

- DHP i inne słabsze lub mocniejsze kwasy, bardzo dobre wyniki daje

zastosowanie kwa

ś

nych

ż

ywic jonowymiennych np. Amberlyst H-15 w

heksanie

Usuwanie grupy ochronnej

- Amberlyst H-15, MeOH lub woda 45

o

C, 1-3h wyniki prawie ilo

ś

ciowe

- inne kwasy w obecno

ś

ci alkoholi lub wody

R

OH

O

O

R

11

- inne kwasy w obecno

ś

ci alkoholi lub wody

UWAGA nie wolno stosowa

ć

w warunkach utleniaj

ą

cych, tworz

ą

si

ę

eksplozywne nadtlenki!

H

2

O:

pH < 1, 100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

Jak powstaje eter tetrahydropiranylowy?

+

O

R

OH

O

O

R

+

12

O

O

+

O

O

O

R

R

OH

O

O

R

H

..

..

H

-H

+

Eter allilowy Allyl

Zakładanie grupy ochronnej:

- CH

2

=CH-CH

2

Br, NaOH, benzen, reflux, 1,5h, 90-100%

- CH

2

=CHCH

2

O-C(=NH)CCl

3

, H

+

- CH

2

=CHCH

2

OCOEt, Pd(dba)

3

, THF, 65

o

C, 4h, 70-97%

Usuwanie grupy ochronnej

- t-BuOK, DMSO, 100

o

C, 15min, 0,1N HCl, aceton-woda, reflux 30min

- (Ph

3

P)

3

RhCl lub Pd/C (izomeryzacja)

- SeO

2

, AcOH dioksan, reflux, 50%

R

OH

R

O

13

2

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

R OH

Br

O

R

1) R=Ar: K

2

CO

3

R=Alk: NaH

2)

a) HCl

reflux

14

O

R

R OH

O

R

t-BuOK

DMSO

b) KMnO

4

NaOH

reflux

c) HgCl

2

/HgO

H

2

O

O

R

OH

O

R

R

R

OsO

4

NaIO

4

O

R

R OH

3eq. NMO, 3eq. NaIO

4

8 mol% OsO

4

dioksan/H

2

O (2:1), 60

o

C, 18h

15

O

R

O

H

OH

O

R

O

O

R

O

H

O

R

O

H

OH

OH

O

R

O

OH

O

H

R

O

O

R

R OH

NMO

4

OsO

4

NMO

NaIO

4

H

2

O

Eter benzylowy Bn

Zakładanie grupy ochronnej:

- PhCH

2

Cl, NaH, THF, Bu

4

N

+

I

-

, 20

o

C, 3h, 100%

- BnO-C(=NH)CCl

3

, CF

3

SO

3

H

Usuwanie grupy ochronnej

- H

2

, 1atm, Pd-C, EtOH, 95%

- Na, NH

3

lub EtOH

- PhS-SiMe

3

, Bu

4

N

+

I

-

, ZnI

2

, DCE, 60

o

C, 2h, 75%

*

R

OH

R

OCH

2

Ph

16

- PhS-SiMe

3

, Bu

4

N I , ZnI

2

, DCE, 60 C, 2h, 75%

*

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

Etery sililowe

Zakładanie grupy ochronnej:

- R

3

SiCl, pirydyna, DMAP

- R

3

SiCl, CH

2

Cl

2

(DMF, CH

3

CN), imidazol, DMAP

- R

3

SiOTf, i-Pr

2

EtN, CH

2

Cl

2

Eter trimetylosililowy TMS

Usuwanie grupy ochronnej

- Bu

4

N

+

F

-

, THF aprotonowe warunki reakcji

- K

2

CO

3

, bezwodny MeOH, 0

o

C, 45min, 100%

R

OH

R

O-SiR

3

17

- K

2

CO

3

, bezwodny MeOH, 0 C, 45min, 100%

- Kwas cytrynowy, MeOH, 20

o

C, 10 min, 100%

Eter trietylosililowy TES

Usuwanie grupy ochronnej

- Bu

4

N

+

F

-

, THF aprotonowe warunki reakcji

- Stosuje si

ę

bardziej kwa

ś

ne

ś

rodowisko ni

ż

w przypadku grupy TMS

Eter tri-izo-propylosililowy TIPS

Usuwanie grupy ochronnej

- Bu

4

N

+

F

-

, THF lub HF, CH

3

CN

- Stosuje si

ę

bardziej kwa

ś

ne

ś

rodowisko ni

ż

w przypadku grupy TES

O

TMSO

OTMS

OTMS

MeO

OTMS

O

TMSO

OTMS

OTMS

MeO

OH

K

2

CO

3

, MeOH

0

o

C, 45 min

100%

OTES

OTBDMS

OH

OTBDMS

2% HFlub

18

OPv

OPv

2% HFlub

HF/pirydyna

Wzgl

ę

dna stabilno

ść

eterów sililowych w warunkach hydrolizy kwa

ś

nej wyra

ż

ona w

postaci 1/k

rel

Me

3

Si[1]< Et

3

Si [64]<t-BuMe

2

Si [20.000] < i-Pr

3

Si[700.000] < t-BuPh

2

Si [5.000.000]

iodpowiednio w warunkach hydrolizy zasadowej:
Me

3

Si[1]< Et

3

Si [10-100]<t-BuMe

2

Si = t-BuPh

2

Si [20.000] < i-Pr

3

Si[100.000]

Czas połowicznego rozpadu eterów sililowych

19

t-BuMe

2

Si

i-Pr

3

Si

t-BuPh

2

Si

1 min

1h

18 min

14 h

244 min

4h

4 min

26 h

76 min

100 min

44 h

137 min

360 min

14 h

-

Grupa ochronna

SiR

3

H

a

OH

b

H

a

OH

b

F

c

a

1%HCl/95%EtOH, 22.5

o

C;

b

5%NaOH/95%EtOH, 90

o

C;

c

2ekwi. TBAF/THF 22.5

o

C

OSiR

3

1% HCl
w 95% EtOH

5% NaOH
w 95% EtOH

t-BuMe

2

Si

i-Pr

3

Si

t-BuPh

2

Si

273 min

>100 h

>100 h

3.5 min

188 min

6.5 min

Czas połowicznego rozpadu eterów sililowych p-krezolu w 25

o

C

20

Eter t-butylodimentylosililowy TBDMS

Usuwanie grupy ochronnej

- Bu

4

N

+

F

-

, THF, 25

o

C, 1h, >90%

- Wodny HF, CH

3

CN (5:95), 20

o

C, 1-3 h, 90-100%

- CF

3

CO

2

H, H

2

O (9:1), CH

2

Cl

2

, rt, 96 h

- 0.01 eq. PdCl2(CH

3

CN), aceton rt, 99%

R

OH

R

O

Si

pH < 1,

pH > 12,

21

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

Eter t-butylodifenylosililowy TBDPS

Usuwanie grupy ochronnej

- Bu

4

N

+

F

-

, THF, 25

o

C, 1-5h, >90%

- 3% metanolowy roztwór chlorowodoru, 25

o

C, 3h, 71%

- 5N NaOH, EtOH, 25

o

C, 7h, 93%

R

OH

R

O

Si

22

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

Estry

Mrówczany

Zakładanie grupy ochronnej:

- 85%HCO

2

H, 60

o

C, 1h, 93%

- CH

3

COOCHO, pirydyna, -20

o

C, 80-100%

Usuwanie grupy ochronnej

- KHCO

3

, H

2

O, MeOH, 20

o

C, 3 dni

R

OH

R

OCOH

23

- KHCO

3

, H

2

O, MeOH, 20

o

C, 3 dni

- rozcie

ń

czony NH

3

, pH 11.2, 22

o

C, 62%, mo

ż

e by

ć

selektywnie usuwany w

obecno

ś

ci estrów kwasu octowego, ze wzgl

ę

du na około 100 razy

szybszej reakcji hydrolizy

Octany

Zakładanie grupy ochronnej:

- Ac

2

O, pirydyna, 20

o

C, 12h, 100%

- CH

3

COCl, 25

o

C, 16h, 67-79%

Usuwanie grupy ochronnej

- K

2

CO

3

, H

2

O, MeOH, 20

o

C, 1h, 100%

- 50% NH3, MeOH, 20

o

C, 2,5h, 85%

R

OH

R

OCOCH

3

24

- 50% NH3, MeOH, 20 C, 2,5h, 85%
- BF

3

-Et

2

O, wilgotny CH

3

CN, 96%

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

Estry kwasu piwaloilowego

Zakładanie grupy ochronnej:

- (CH

3

)

3

CCOCl, pirydyna, 0-75

o

C, 2,5 dnia, 99%

Usuwanie grupy ochronnej

- Bu

4

N

+

OH

-

, 20

o

C, 4h,

- 0,5 N NaOH, EtOH, H

2

O, 20

o

C, 12h, 58%

- i-Bu

2

AlH, CH

2

Cl

2

, -78

o

C, 95%

R

OH

R

OCOC(CH

3

)

3

25

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

Chlorooctany, dichlorooctany, trichlorooctany, metoksyoctany, benzoesany
i inne estry kwasów karboksylowych.

W

ę

glany

W

ę

glan 9-fluorenylometylowy Fmoc

Zakładanie grupy ochronnej:

- Fmoc-Cl, pirydyna, 20

o

C, 40min, 81-96%

Usuwanie grupy ochronnej

- Et

3

N, pirydyna, 2h, 83-96% (czas połowicznego rozpadu = 20 min)

R

OH

R

O

O

O

26

W

ę

glan allilu

Zakładanie grupy ochronnej:

- CH

2

=CHCH

2

OCOCl, pirydyna, THF, 0

o

do 20

o

C, 2h, 90%

Usuwanie grupy ochronnej

- Pd(Ph

3

P)

4

, HCO

2

NH

4

R

OH

R

O

O

O

1,2- i 1,3-Diole

Cykliczne acetale i ketale

Metylenowy acetal

Zakładanie grupy ochronnej:

- Paraformaldehyd, H

2

SO

4

, AcOH, 90

o

C, 1h, dobre wydajno

ś

ci

- (MeO)

2

CH

2

, 2,6-lutydyna, TMSOTf, 0

o

C, 15 min

Usuwanie grupy ochronnej

R

R

O

H

OH

R

R

O

O

27

Usuwanie grupy ochronnej

- BCl

3

, CH

2

Cl

2

, -80

o

C, 30min, ogrzewano do 20

o

C, 61%

- AcOH, Ac

2

O, H

2

SO

4

, 0

o

C, 2h, 92%

Izopropylidenowy ketal (Acetonid)

Zakładanie grupy ochronnej:

- CH

3

C(OCH

3

)=CH

2

, suchy HBr, CH

2

Cl

2

, 0

o

C, 16h, 75%

- (CH

3

)

2

C(MeO)

2

, 2,6-lutydyna, TMSOTf, 0

o

C, 15 min

- Suchy aceton, FeCl

3

, 36

o

C, 5h, 60-70%

Usuwanie grupy ochronnej

R

R

O

H

OH

R

R

O

O

28

Usuwanie grupy ochronnej

- I

2

katalitycznie, MeOH, RT, 24h, >80%

- BCl

3

, CH

2

Cl

2

, 25

o

C, 2 min, 100%

- 80% AcOH, 120

o

C, 30 min, 78% dla trans dioli

- PdCl

2

(CH

3

CN)

2

, CH

3

CN, H

2

O, RT, 82-100%

Benzylidenowy acetal

Zakładanie grupy ochronnej:

- PhCHO, ZnCl

2

, 28

o

C, 4h

0

o

C, 15 min

-

K

2

CO

3

lub pirydyna, CH

2

Cl

2

, 25

o

C, 16h, 45-82%

*

R

R

O

H

OH

R

R

O

O

Ph

S

S

Me

Me

Ph

_

+

+

2X

29

- PhCH(OMe)

2

, HBF

4

, Et

2

O, DMF, 97%

Usuwanie grupy ochronnej

- H

2

/Pd-C, AcOH, RT, 30-45 min, 90%

- Na, NH

3

, 85%

- I

2

, MeOH, 85%

- FeCl

3

, CH

2

Cl

2

, 3-30 min, 68-85%

*

Metoda ta słu

ż

y do zakładania bloku acetalowego na diole 1,2-, 1,3-, i 1,4-

Me

OH

OH

R

1

OH

R

O

O

Ph

R

OH

R

1

H

+

-H

2

O

PhCHO lub

PhCH(OMe)

2

O

O

Ph

CO Me

OH

Na(CN)BH

3

30

O

O

CO

2

Me

MeO

2

C

CO

2

Me

MeO

2

C

OBn

3

TiCl

4

, CH

3

CN

O

O

O

O

MeO

Ph

O

O

O

O

MeO

H

Ph

CN

TMS-CN

BF

3

EtO

2

.

R

O

H

OH

O

R

O

R

R

O

O

R

R

R

1

R

1

Ketale/acetale

odblokowanie za pomoc

ą

Ketale/acetale
acykliczne

H

+

/-H

2

O

R

1

-OH

Ochrona grupy karbonylowej

31

O

R

R

O

H

OH

O

O

R

R

Ketale/acetale
(dioksolany)

H

+

/-H

2

O

odblokowanie za pomoc

ą

hydrolizy kwa

ś

nej

Acetal (ketal) dimetylowy

Zakładanie grupy ochronnej:

- MeOH, suchy HCl,
- CH(OMe)

3

, bezwodny MeOH, TsOH, 2h, temp. wrzenia, 80-95%

- CH(OMe)

3

, MeNO

2

, CF

3

CO

2

H, 4h, temp. Wrzenia, 81-93% procedura

otrzymywania ketali ketonów diarylowych.

Usuwanie grupy ochronnej

- 50% CF

3

CO

2

H, CHCl

3

, H

2

O, 0

o

C, 90 min, 96%

- Amberlyst-15, aceton, H

2

O, 20h acetale sprz

ęż

onych aldehydów

hydrolizuj

ą

wolno, u

ż

ycie HCl/THF lub PPTS/aceton powoduje cz

ę

sto

R

CHO

R

CH(OMe)

2

32

hydrolizuj

ą

wolno, u

ż

ycie HCl/THF lub PPTS/aceton powoduje cz

ę

sto

izomeryzacj

ę

- Me

3

SiI, CH

2

Cl

2

, 25

o

C, 15 min, 85-95% w tych warunkach stabilne s

ą

1,3-ditiolany, alkilowe i sililowe etery enoli.

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

Modyfikacje dokonane w podstawniku alkilowym pozwalaj

ą

otrzyma

ć

acykliczne

acetale/ketale, które mog

ą

by

ć

usuwane dzi

ę

ki wykorzystaniu własno

ś

ci tak

sfunkcjonalizowanych pochodnych.
Np: acetal bis(2,2,2-trichloroetylowy) usuwanie poprzez redukcj

ę

Zn/CH

3

CO

2

H,

dibenzylowy – redukcja wodorem na katalizatorze palladowym, lub
bis(2-nitrobenzylowy) przy u

ż

yciu

ś

wiatła.

Zakładanie grupy ochronnej:

- reakcja trans acetalizacji, TsOH, benzen lub toluen
- R

1

-CH

2

-OSiMe

3

, Me

3

SiOTf, -78

o

C, 80-95%

O

R

CH

2

CCl

3

1,5 eq Cl CCH OH

33

O

O

R

R

Me

Me

O

O

R

R

CH

2

CCl

3

Me

O

O

R

R

CH

2

CCl

3

CH

2

CCl

3

+

TsOH, benzen, reflux

1,5 eq Cl

3

CCH

2

OH

4 eq Cl

3

CCH

2

OH

Cykliczne acetale i ketale
1,3-Dioksany, 1,3-dioksolany

Zakładanie grupy ochronnej:

- HO(CH

2

)

3

OH lub HO(CH

2

)

2

OH, TsOH, benzen, reflux

- HO(CH

2

)

3

OH, THF, Amberlyst-15, 5 min, 50-70%

- HO(CH

2

)

2

OH, BF

3

·Et

2

O lub Me

3

SiCl lub inne katalizatory kwa

ś

ne.

- Me

3

SiOCH

2

CH

2

OSiMe

3

, Me

3

SiOTf

Usuwanie grupy ochronnej

- PPTS, aceton, H

2

O, grzanie 100%

- SiO , H O, CH Cl , kwas szczawiowy, 90-95% stosuje si

ę

do

αααα

,

ββββ

-

R

CHO

O

O

R

O

O

R

lub

34

2

- SiO

2

, H

2

O, CH

2

Cl

2

, kwas szczawiowy, 90-95% stosuje si

ę

do

αααα

,

ββββ

-

nienasyconych ketali

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

5-Metyleno-1,3-dioksan

O

O

R

1

R

2

Zakładanie grupy ochronnej:

- CH

2

=C(CH

2

OH)

2

, TsOH, benzen, grzanie, 90%

Usuwanie grupy ochronnej

O

O

R

R

O

O

R

R

O

R

kat. RhCl(Ph

3

P)

3

EtOH wilgotny

H

3

O

+

lub HgCl

2

, HgO

35

O

R

O

R

R

EtOH wilgotny

D, 3h, 96%

lub HgCl

2

, HgO

98%

O

O

R

R

O

O

R

R

O

O

R

R

OsO

4

, NaIO

4

Al/Hg

mokry THF

25

o

C, 4h

80%

5-Metyleno-1,3-dioksan cd.

O

O

R

R

O

O

R

R

O

O

R

R

BF

3

Et

2

O

O

O

R

R

CHO

25

o

C, 14h

80%

MCPBA, CH

2

Cl

2

.

1. pirydyna

2. H

2

O

36

Usuwanie 1,3-dioksolanowej grupy ochronnej w warunkach
hydrolizy zasadowej

O

R

R

O

H

SO

2

Ph

OH

O

O

R

R

SO

2

Ph

O

R

R

p-TsA, benzen

DBU

CH

2

Cl

2

Tetrahedron Lett. 1998, 39, 2401

1,3-Dithiany, 1,3-dithiolany

Zakładanie grupy ochronnej:

- HS(CH

2

)

n

SH, BF

3

·Et

2

O, CH

2

Cl

2

, 25

o

C, 12h

- Me

3

SiSCH

2

CH

2

SSiMe

3

, ZnI

2

, Et

2

O, 0-25

o

C, 12-24h

Usuwanie grupy ochronnej

- Hg(ClO

4

)

2

, MeOH, CHCl

3

, 25

o

C, 5 min, 93%

- CuCl

2

, CuO, aceton, H

2

O, grzanie 85%

- metody wykorzystuj

ą

ce odczynniki utleniaj

ą

ce i alkiluj

ą

ce

Mechanizm usuwania tych grup był ju

ż

omówiony

.

R

CHO

S

S

R

S

S

R

lub

37

Mechanizm usuwania tych grup był ju

ż

omówiony

.

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

Estry

odblokowanie za pomoc

ą

nukleofili (hydrolizy kwa

ś

nej

lub K

2

CO

3

/H

2

O)

RCO

2

H

RCO

2

Me

NaH

MeI

Estry allilowe

Estry t-butylowe

RCO

2

H

RCO

2

H

NaH

Alill-Br

RCO

2

-allil

odblokowanie za pomoc

ą

Pd/C nast

ę

pnie amina

RCO

2

-t-Bu

izobutylen

H

+

odblokowanie za pomoc

ą

kwasów (CF CO H, HCl)

Ochrona grupy karboksylowej

38

2

H

+

kwasów (CF

3

CO

2

H, HCl)

Ogólne metody syntezy estrów

Otrzymywanie estrów mo

ż

e by

ć

zaklasyfikowane do dwóch głównych

kategorii:
- aktywowanie grupy karboksylowej za pomoc

ą

dobrej grupy odchodz

ą

cej

- nukleofilowego podstawienia anionem karboksylowym halogenku

alkilowego lub sulfonianu.

1. RCO

2

H + R’OH, THF, Me

3

SiCl lub Me

2

SiCl

2

, MeSiCl

3

, SiCl

4

, RT, 15-100 min,

90-97% estryfikacja Fischera

2. RCO

2

H + R’OH, DCC/DMAP, Et

2

O, 25

o

C, 1-24h, 70-95% estryfikacja Steglicha

39

2. RCO

2

H + R’OH, DCC/DMAP, Et

2

O, 25 C, 1-24h, 70-95% estryfikacja Steglicha

Ester metylowy

Zakładanie grupy ochronnej:

- MeOH, H

2

SO

4

, 0

o

C, 1 - 18h, 98%

- CH

2

N

2

, Et

2

O, 0

o

C, 75%

- Me

2

C(OMe)

2

, kat. HCl,25

o

C, 18h, 80-95% procedura otrzymywania

estrów metylowych aminokwasów.

Usuwanie grupy ochronnej

- LiOH, MeOH, H

2

O, (3:1), 5

o

C, 15h

- 0.95eq KOH, MeOH, H

2

O

- NaBH , I , 3h, RT.

R

CO

2

H

R

CO

2

Me

40

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

- NaBH

4

, I

2

, 3h, RT.

O

H

CO

2

Me

CO

2

Me

O

H

CO

2

Me

CO

2

H

0.95eq. KOH

95% selektywno

ś

ci

C

R

O

O

H

H

2

C

N

N

+

_

C

H

2

N

N

+

_

C

R

O

O

_

C

H

3

N

N

+

C

R

O

O

Me

+

..

..

..

..

+

..

S

N

2

lub S

N

1

+ N

2

41

OH

MeO

2

C

CO

2

Me

OH

MeO

2

C

CO

2

H

Esteraza

ś

wi

ń

skiej w

ą

troby

pH 6.8

CO

2

Me

CO

2

Me

CO

2

Me

CO

2

H

Esteraza

ś

wi

ń

skiej w

ą

troby

wydajno

ść

98%

96% ee

Ester tert-butylowy

Zakładanie grupy ochronnej:

- izobutylen, H

2

SO

4

, Et2O, 25

o

C, 2 - 24h, 50-60%

- (COCl)

2

, benzen, DMF, 7-10

o

C, 45min, t-BuOH, Et

3

N, CH

2

Cl

2

, 75%

Usuwanie grupy ochronnej

- HCO

2

H, 20

o

C, 3h

- CF

3

CO

2

H, CH

2

Cl

2

, 25

o

C, 1h

- TsOH, benzen, 30min, temp. Wrzenia, 76%.

R

CO

2

H

R

CO

2

-t-Bu

42

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophile
s:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophile
s:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

Zakładanie t-butylowej grupy ochronnej

C

CH

2

Me

Me

+

+

C

CH

3

C

H

3

C

H

3

+

R

C

O

O H

R

C

O

O H

C

CH

3

CH

3

CH

3

+

H

-H

43

R

C

O

O H

C

CH

3

CH

3

CH

3

+

+

+

R

C

O

O

C

CH

3

CH

3

CH

3

-H

H

Ester benzylowy

Zakładanie grupy ochronnej:

- DCC, DMAP, BnOH, 92%
- transestryfikacja estrów metylowych, 185

o

C, 1,5h

Usuwanie grupy ochronnej

- H

2

/Pd-C, 25

o

C, 45min- 24h, wysokie wydajno

ś

ci

- Pd-C, cykloheksan, 25

o

C, 1.5-6h, dobre wydajno

ś

ci

- K

2

CO

3

, H

2

O, THF, 0-25

o

C, 1h, 75%.

R

CO

2

H

R

CO

2

Bn

44

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophile
s:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophile
s:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

2-Alkilo-1,3-oksazolina, 2-akilo-4,4-dimetylo-1,3-oksazolina

Zakładanie grupy ochronnej:

- HOCH

2

CH

2

NH

2

, lub HOCH

2

CMe

2

NH

2

, toluen, temp. Wrzenia, 70-80%

- z chlorków kwasowych, SOCl

2

, HOCH

2

CH

2

NH

2

lub HOCH

2

CMe

2

NH

2

,

CH

2

Cl

2

, 25

o

C, 30min, 80%

Usuwanie grupy ochronnej

- 3N HCl, EtOH, 90%
- MeI, 25

o

C, 12h, 1N NaOH, 25

o

C, 15h, 94%

R

CO

2

H

R

C

N

O

45

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

- MeI, 25

o

C, 12h, 1N NaOH, 25

o

C, 15h, 94%

S

ą

stabilne w obecno

ś

ci odczynników Grignarda oraz glinowodorku litowego

RNH

O

RNH

O

O

Ochrona funkcji aminowej

RNH

2

odblokowanie za pomoc

ą

wodorolizy (H

2

Pd/C)

odblokowanie za pomoc

ą

kwasów (CF

3

CO

2

H, HCl)

RNH

2

PhCH

2

Cl

Et

3

N

Boc

2

O

Boc:

CbzCl

Bn

46

O

RNH

O

O

RNH

O

RNH

2

RNH

2

CbzCl

Na

2

CO

3

odblokowanie za pomoc

ą

wodorolizy (H

2

Pd/C)

Et

3

N

FmocCl

odblokowanie za pomoc

ą

amin (piperydyna)

Cbz

Z

Fmoc:

Karbaminian t-butylu BOC

Zakładanie grupy ochronnej:

- (BOC)

2

O, NaOH, H

2

O, 25

o

C, 10-30min., 75-95%

- BOC-ONH2 ten reagent reaguje z aminami 1.5-2.5 razy szybciej ni

ż

(BOC)

2

O. Hydroksyloamina u

ż

yta w ilo

ś

ci katalitycznej w obecno

ś

ci

(BOC)

2

O generuje ten odczynnik in situ.

Usuwanie grupy ochronnej

- 3M HCl, EtOAc, 25

o

C, 30min, 96%

- CF

3

CO

2

H, PhSH, 20

o

C, 1h, 100% tiofenol jest u

ż

ywany jako scavenger

R

NH

2

R

NH-COO-t-Bu

47

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

- CF

3

CO

2

H, PhSH, 20

o

C, 1h, 100% tiofenol jest u

ż

ywany jako scavenger

- Me

3

SiCl, PhOH, CH

2

Cl

2

, 20min. 100% w tych warunkach grupa benzylowa

nie jest usuwana.

Karbaminian benzylu Cbz lub Z

Zakładanie grupy ochronnej:

- PhCH

2

OCOCl, Na

2

CO

3

, H

2

O, 0

o

C, 30min., 72%

- (PhCH

2

OCO)

2

O, dioksan, H

2

O, NaOH lub Et

3

N raportowane s

ą

dane,

ż

e

wyniki s

ą

lepsze ni

ż

w przypadku chloromrówczanu benzylu.

Usuwanie grupy ochronnej

- H

2

/Pd-C, je

ś

li odblokowanie prowadzi

ć

w obecno

ś

ci (BOC)

2

O,

powstaj

ą

ca amina jest przekształcana w pochodna BOC

- HBr/AcOH
- Na/NH

R

NH

2

R

NH-COOBn

48

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/

CH

2

Cl

2

- Na/NH

3

- Me

3

SiCl, CH

3

CN, 25

o

C, 6min. 100%

Zastosowanie pochodnej 4-nitrobenzylowej pozwala usuwa

ć

t

ę

grup

ę

za pomoc

ą

ś

wiatła.

Karbaminian 9-fluorenylometylu Fmoc

Zakładanie grupy ochronnej:

- Fmoc-Cl, NaHCO

3

, woda dioksan, 88-98%

- Fmoc-N

3

, NaHCO

3

, wodny dioksan, 88-98%

Usuwanie grupy ochronnej

- usuwanie za pomoc

ą

amin w roztworze DMF:

20% piperydyna, t

1/2

=6s, 5% piperydyna t

1/2

=20s, 50% morfolina t

1/2

=1min,

50% dicykloheksyloamina t

1/2

=35min, 50% diizopropyloetyloamina t

1/2

=10.1h

R

NH

2

R NH-COO

49

H

2

O:

pH < 1,
100°C

pH = 1, RT

pH = 4, RT

pH = 9, RT

pH = 12, RT

pH > 12,
100°C

Bases:

LDA

NEt

3

, Py

t-BuOK

Others:

DCC

SOCl

2

Nucleophiles:

RLi

RMgX

RCuLi

Enolates

NH

3

, RNH

2

NaOCH

3

Electrophiles:

RCOCl

RCHO

CH

3

I

Others:

:CCl

2

Bu

3

SnH

Reduction:

H

2

/ Ni

H

2

/ Rh

Zn / HCl

Na / NH

3

LiAlH

4

NaBH

4

Oxidation:

KMnO

4

OsO

4

CrO

3

/ Py

RCOOOH

I

2

, Br

2

, Cl

2

MnO

2

/CH

2

Cl

2

50% dicykloheksyloamina t

1/2

=35min, 50% diizopropyloetyloamina t

1/2

=10.1h

-

R

2

NH

O

O

O

O

O

N

O

O

R

2

Cl

O

O

dioksan, woda,

∆∆∆∆

, 1h

67-94%

stosuje sie te

ż

w obecno

ś

ci pirydyny

Karbaminian alilu

50

N

H

O

O

CO

2

Me

N

H

O

O

SiEt

3

CO

2

Me

NH

2

CO

2

Me

1) Pd(OAc)

2

, Et

3

N

2) Et

3

SiH (lub t-BuMe

2

SiH)

3) H

2

O

N-Ftalimid

N

O

O

R

N

O

R

N

O

CO

2

Et

NH

O

R

NHCO

2

Et

+ RNH

2

51

N

O

R

O

O

NHCO

2

Et

N

O

O

R

NH

NH

O

O

R NH

2

H

2

N-NH

2

EtOH, 25

o

C

+

Ochrona grupy H-C

≡

C

Trialkilosilany s

ą

zwykle otrzymywane poprzez addycje litowych lub

odczynników Grignarda do chlorków sillilowych. Sillilowe acetyleny s

ą

otrzymywane z alkinokupratów(I) w obecno

ś

ci PPh

3

, Zn lub TMEDA w

acetonitrylu w temp 100

o

C, wydajno

ś

ci 36-98%

52

R

Cu

R

SiR

3

R

3

SiCl, CH

3

CN

PPh

3

, Zn, TMEDA

100

o

C, 36-98%

CuCl, DMI

DMI = 1,3-dimetylo-2-imidazolina

Trimetylosilliloalkiny

Usuwanie:

- KF, MeOH, 50

o

C, 89%

- AgNO

3

, 2,6-lutydyna, 90%

-AgNO

3

, MeOH, H

2

O, 0

o

C, addycja KCN i HCl, 96%

- K

2

CO

3

, MeOH lub KOH, MeOH 76-99%

O

OMOM

O

OMOM

H

TMS

NaOH, MeOH

53

MOMO

OTIPS

MOMO

OTIPS

TES

NaOH, MeOH

25

o

C, 99%

TES

Wzgl

ę

dna szybko

ść

usuni

ę

cia grupy sillilowej w alkalicznym roztworze

wodno metanolowym dla alkinosilanów jest nast

ę

puj

ą

ca:

PhC

≡

CSiMe

3

/PhC

≡

CSiEtMe

2

/PhC

≡

CSiEt

2

Me/PhC

≡

CSiEt

3

/PhC

≡

CSiPh

3

277 : 49 : 7.4 : 1 : 11.8
Grupa TES mo

ż

e by

ć

selektywnie usuni

ę

ta w obecno

ś

ci grupy TBDMS

(t-BuOK, MeOH, 40

o

C, 65%)

Ochrona innych funkcji

C

H

H

CO

2

Et

CO

2

Et

C

H

R

CO

2

Et

CO

2

Et

C

R

R

CO

2

Et

CO

2

Et

C

H

H

CO

2

Et

CO

2

Et

1) :B

2) R-X

+

+

MgO

54

H

C

CO

2

Et

CO

2

Et

CO

2

Et

R

C

CO

2

Et

CO

2

Et

CO

2

Et

1) :B

2) R-X

C

H

R

CO

2

Et

CO

2

Et

EtONa

THF

25

o

C, 10 min