background image

Wzrost Pb na 
powierzchni Si(111) 
zrekonstruowanej 
przez In

Sylwia Bilińska

background image

Plan prezentacji

1.

Cel badań

2.

Charakterystyka powierzchni Si(111)-(77)

3.

Charakterystyka adsorbatów: In i Pb

4.

Przegląd literatury

5.

…..

 

background image

Cel badań

1.

Poszukiwanie nowych materiałów 

2.

Charakter wzrostu adsorbatu na powierzchni 

Si(111)-M

3.

Czy mogą powstać sztuczne struktury o nowych 

właściwościach fizykochemicznych i 

elektronicznych?

background image

Charakterystyka powierzchni Si(111)-(77)

 

Obraz dyfrakcyjny powierzchni 
Si(111)-(7x7) w RT (53 eV)

DAS

  model 

–  model  zawierający  dimery  (

D

IMERS), 

adatomy  (

A

DATOMS)  i  błędy  uporządkowania  (

S

TACKING 

FAULT); 

opracowany 

przez 

Takayanagi,  Tanishiro, 

Takahashi i Takahashi w 1985 r.

a

A

C

a

A

B

background image
background image

Charakterystyka adsorbatów: In i Pb

liczba

atomowa

rok

 odkrycia

masa 

atomow

a

konfiguracja 

elektronowa

charakter 

chemiczn

y

Elektro-

ujemnoś

ć 

wg 

Pauling

a

promień 

atomowy 

[pm]

Tempera-

tura 

topnieni

[K]

Gęstość

 [g/cm

3

]

powino-

wactwo 

elektro-

nowe

praca 

wyjścia 

[ev]

In

49

1863

114.9

[Kr]

 4d

10

5s

2

5p

1

metal

1.78

167

429.75

7.29

29

4.08

Pb

82

staroż.

207.2

[Xe]

 

4f

14

5d

10

6s

2

6p

2

metal

1.80

175

600.61 11.34

35

4.18

background image

Yakes M et al. 2007 Appl. Phys. Lett. 90 163117

Yakes M et al. 2007 Appl. Phys. Lett. 90 163117

E=159 eV 

Θ

In 

=0.5-1.0 ML, 

T~350 C

o

In-Si (111) 4x1 reconstruction which was formed by two zigzag  In 
chains 

http://nanology.ustc.edu.cn/fangx/semi.htm

)

background image

 

Adsorpcja Pb w RT na powierzchniach : 
a) Si(111)-(7 × 7), 

E=167 eV , 

Θ

In

=0 ML

Vlachos et al. J. Phys. Condens. Matter 24 (2012) 
095006

Vlachos et al. J. Phys. Condens. Matter 24 (2012) 
095006

background image

 

Adsorpcja Pb w RT na powierzchniach : 
a) Si(111)-(7 × 7),           b) Si(111)-(√3 × √3)–In      c) Si(111)-(4 × 1)–In  

E=167 eV , 

Θ

In

=0 ML

E=206 eV 
 

Θ

In 

=0.3 

ML,
 T~440 C

o

E=159 eV 

Θ

In 

=0.5-1.0 ML, 

T~350 C

o

Vlachos et al. J. Phys. Condens. Matter 24 (2012) 
095006

Vlachos et al. J. Phys. Condens. Matter 24 (2012) 
095006

background image

Pomiar AES

Wyniki. Pomiar AES

Widmo AES dla czystego krzemu

Badania własne (S.B.)

background image

Widmo AES dla krzemu i ołowiu w RT

Badania własne (S.B.)

background image

 Vlachos et al. J. Phys. Condens. Matter 24 (2012) 095006

Pb na podłożu Si(111)-(√3 × √3)–In po wygrzaniu układu

Vlachos et al. J. Phys. Condens. Matter 24 (2012) 
095006

Vlachos et al. J. Phys. Condens. Matter 24 (2012) 
095006

background image

Pb na podłożu Si(111)-(4 x 1)-In po wygrzaniu układu

Vlachos et al. J. Phys. Condens. Matter 24 (2012) 
095006

Vlachos et al. J. Phys. Condens. Matter 24 (2012) 
095006

background image

Wnioski wynikające z badań Vlachos’a

Fazę znacznie zależy od temperatury podłoża  wyżarzania 
i  względne  stężenie  pomiędzy  dwoma  zaadsorbowanymi 
metalami;

Pb  jest    słabiej  związany  na  powierzchni  krzemu, 
ponieważ  desorbuje  w  pierwszym  zakresie  temperatur 
około 750-850 K.

 

Temperatura  desorpcji  Pb  jest  niższa,  gdy  powierzchnia 
Si będzie pokryta większą ilością In.  Na Si(1110-7x7 Pb 
całkowicie desorbuje w temp. 900 K, dla √ 3x √ 3-In przy 
850  K  a  dla  4x1-In  przy  800  K.  Wskazuje  to  na  słabe 
wiązanie Pb-Si w obecności In. 

background image

Dziękuje za uwagę


Document Outline