Chf24, Studia, Politechnika


Zakład Chemii Fizycznej

Laboratorium Studenckie

ĆWICZENIE nr 24

TEMAT:

WYZNACZANIE POWIERZCHNI WŁAŚCIWEJ

WĘGLA AKTYWNEGO.

Aleksander Skrzypczak

Jacek Zdyb

Inżynieria chemiczna

Grupa III Rok II

Wstęp

Zjawisko występujące na granicy dwóch faz , polegające na powstawaniu różnic pomiędzy przeciętnym składem wnętrza faz , a składem warstw przylegających do powierzchni rozdziału , nazywamy adsorpcją. Zachodzi ono prawie zawsze w przypadku zetknięcia się gazów lub cieczy (adsorbat) z fazą stałą. W wyniku procesu adsorpcji cząsteczki adsorbentu na powierzchni ciała stałego zwanego adsorbentem tracą swobodę ruchu. W zależności od sił działających na cząsteczki fazy ciekłej lub gazowej w warstwie przylegającej do adsorbentu , adsorpcja może mieć charakter fizyczny lub chemiczny.

Cząsteczki i atomy mogą przyłączać się do powierzchni na dwa sposoby. W procesie fizysorpcji (adsorpcji fizycznej) pomiędzy adsorbatem i adsorbentem istnieją oddziaływania van der Waalsa (np. siły dyspersyjne lub oddziaływania dipolowe). Siły van der Waalsa mają długi zasięg, lecz są słabe, zatem energia uwolniona w trakcie fizysorpcji cząsteczki jest tego samego rzędu, co entalpia kondensacji. Taka niewielka ilość energii może być z łatwością pochłonięta przez drgania sieciowe i ulec dysypacji

w postaci ruchów termicznych, przeto cząsteczka, skacząc po powierzchni, stopniowo wytraca swą energię, by w końcu ulec adsorpcji w procesie zwanym akomodacją.

Entalpię adsorpcji fizycznej można wyznaczyć, mierząc wzrost temperatury próbki o znanej pojemności cieplnej. Typowe jej wartości wynoszą około 20 kJ mol-1 . Tak niewielka zmiana entalpii najczęściej nie wystarcza do zerwania wiązania, zatem zaadsorbowana fizycznie cząsteczka zachowuje swą tożsamość, choć obecność powierzchni może powodować jej odkształcenie.

W procesie chemisorpcji (adsorpcji chemicznej) cząsteczki (lub atomy) łączą się z powierzchnią, tworząc wiązania chemiczne (najczęściej kowalencyjne), dążąc przy tym do największej liczby koordynacyjnej na powierzchni. Entalpia chemisorpcji jest dużo większa niż fizysorpcji. a typowe jej wartości wynoszą około 200 k] • mol-1 . Również odległość pomiędzy powierzchnią i najbliższymi atomami adsorbatu jest zazwyczaj mniejsza w przypadku chemisorpcji niż adsorpcji fizycznej.

Zaadsorbowana chemicznie cząsteczka może ulec rozpadowi w wyniku działania niewysyconych walencyjnie atomów powierzchniowych. Fragmentacja cząsteczek na powierzchni pod wpływem chemisorpcji jest jedną z przyczyn tego, że powierzchnie ciał stałych katalizują reakcje chemiczne.

Z wyjątkiem szczególnych przypadków, chemisorpcja jest procesem egzotermicznym. Podstawowym testem umożliwiającym rozróżnienie chemisorpcji od fizysorpcji był niegdyś pomiar entalpii adsorpcji. Wartości powyżej —25 kJ • mol-1 przypisywano adsorpcji fizycznej, a poniżej ok. —40 kJ mol-1 — adsorpcji chemicznej. Takie kryterium nie stanowi jednak żadnego dowodu i obecnie w tym celu raczej stosuje się metody spektroskopowe.

Według modelu adsorpcji Langmuira szybkość procesu adsorpcji można wyrazić następująco

0x01 graphic
0x01 graphic
(1)

a szybkość desorpcji

0x01 graphic
(2)

Z równania (1) wynika , że szybkość adsorpcji zależy od niepokrytej (wolnej) powierzchni (1-Θ) i od ciśnienia gazu p (lub stężenia). W stanie równowagi następuje zrównanie się szybkości va = vd , czyli że

0x01 graphic
(3)

a stąd po przekształceniu

0x01 graphic
(4)

gdzie K = ka/kd jest określany jako współczynnik adsorpcji.

Wyrażenie (4) jest równaniem izotermy adsorpcji Langmuira. W przypadku adsorpcji z roztworu równanie izotermy Langmuira przyjmuje postać:

0x01 graphic
(5)

Równanie izotermy adsorpcji Langmuira można sprowadzić do postaci liniowej

0x01 graphic
(6)

Jeżeli stopień pokrycia wyrazimy ilością moli adsorbatu odniesioną do 1 g adsorbentu

0x01 graphic
(7)

to równanie izotermy adsorpcji przyjmie postać

0x01 graphic

0x01 graphic
0x01 graphic
(8)

lub po przekształceniu

0x01 graphic
(9)

Zależność (9) jest równaniem prostej o parametrach 1/nw,maks i 1/(nw,maksK). Za pomocą tego równania można wyznaczyć stałe K i nw,maks ze współczynnika kierunkowego prostej 1/nw,maks i z rzędnej 1/(nw,maksK). Znając wartość nw,maks możemy wyliczyć powierzchnię właściwą przypadającą na określoną ilość adsorbenta A , jeżeli znana jest powierzchnia S zajmowana przez cząsteczką w monowarstwie

0x01 graphic
(10)

Opracowanie wyników

1. Zestawienie danych uzyskanych w trakcie wykonywania doświadczenia :

L.P.

Stężenie początkowe 50 cm3 kw. octowego przed adsorpcją [mol/dm3]

Objętość 0,1 molowego roztworu NaOH zużytego do miareczkowania [cm3]

Objętość 0,1 molowego roztworu NaOH zużytego do miareczkowania [dm3]

1.

0,15

28

0,028

2.

0,12

21,6

0,0216

3.

0,09

18,8

0,0188

4.

0,06

12,4

0,0124

5.

0,03

6,1

0,0061

6.

0,015

2,8

0,0028

- Przykładowe obliczenia :

Obliczanie liczby moli kwasu octowego zawartych w 50 cm3 (0,05 dm3 ) roztworu przed adsorpcją :

n1 = ckw. octowego · Vkw. octowego

0x01 graphic
0x01 graphic

Obliczanie liczby moli kwasu octowego zawartych w 50 cm3 roztworu po adsorpcji :

( K - współczynnik zależny od objętości próbki pobranej do miareczkowania , dla pierwszych

dwóch próbek K=2,5 a dla pozostałych czterech K=2 ) .

n2 = cNaOH VNaOH·K

0x01 graphic
0x01 graphic

Obliczanie stężenia równowagowego kwasu octowego :

0x01 graphic

0x01 graphic
0x01 graphic

Obliczanie całkowitej ilości moli kwasu octowego, która uległa zaadsorbowaniu :

n = n1 - n2

0,0075 - 0,007 = 0,0005 [mol]

Obliczanie ilości moli kwasu octowego, która została zaadsorbowana na 1g węgla aktywnego :

0x01 graphic

0x01 graphic
0x01 graphic

2. Zestawienie uzyskanych wyników z obliczeń :

Ilość moli kwasu octowego w 50 cm3 roztworu przed adsorpcją n1[mol]

Ilość gramów użytego węgla aktywnego m[g]

Ilość moli kwasu octowego w 50 cm3 roztworu po adsorpcji n2[mol]

Stężenie równowagowe kwasu octowego

c[mol/dm3]

Całkowita ilość moli kwasu octowego która uległa zaadsorbowaniu n=n1-n2[mol]

Ilość moli kwasu octowego która została zaadsorbowana na 1g węgla aktywnego nw=n/m[mol/g]

0,0075

1,0159

0,007

0,14

0,0005

0,000492

0,006

1,0048

0,0054

0,108

0,0006

0,000597

0,0045

1,00225

0,00376

0,0752

0,00074

0,000738

0,003

1,0206

0,00248

0,0496

0,00052

0,000509

0,0015

0,9998

0,00122

0,0244

0,00028

0,00028

0,00075

1,04085

0,00056

0,0112

0,00019

0,000182

3. Na podstawie uzyskanych wyników wykreślono krzywą izotermy adsorpcji :

0x01 graphic

4. Na podstawie równania (9) wykreślono zależność c/nw = f(c)

0x01 graphic

oraz obliczono liczbę moli kwasu octowego potrzebną do pokrycia powierzchni 1 g węgla aktywnego monomolekularną warstewką ( nw,maks).

Wartość tą wyznaczono na podstawie wyznaczenia współczynnika kierunkowego wykreślonej uprzednio prostej b = 1 / nw,maks

a) metoda graficzna

Wybieramy dwa punkty z powyższego wykresu i przy pomocy ich współrzędnych położenia korzystając z równania obliczamy współczynnik kierunkowy prostej :

0x01 graphic

współrzędne punktów : x1 = 0,02 ; y1 = 60

x2 = 0,12 ; y2 = 220

a = 1600

b) metoda najmniejszych kwadratów

0x01 graphic

c/nw

c·(c/nw)

c

c2

284,452

39,82328

0,14

0,0196

180,864

19,53331

0,108

0,011664

101,8503

7,65914

0,0752

0,005655

97,34954

4,828537

0,0496

0,00246

87,12543

2,12586

0,0244

0,000595

61,35537

0,68718

0,0112

0,000125

812,9966

74,65731

0,4084

0,0401

suma

(∑ci)2 = 0,166791

liczba pomiarów m = 6

a = 0x01 graphic

0x01 graphic
0x01 graphic

4. Zakładając , że S = 21·10-20 obliczamy za pomocą równania (10) powierzchnię właściwą węgla aktywnego A korzystając z wartości uzyskanych z metody najmniejszych kwadratów :

A = nw,maksNAS = 0,00063674·6,025·1023·21·10-20 = 80,5635 0x01 graphic



Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
Prawo inżynierskie i ochrona własności intelektualnych. Wykład 3, Studia, Politechnika Łódzka - Pend
Testy biodegradacji, Studia, Politechnika
Chf9, Studia, Politechnika
Wyznaczanie stałej reakcji szybkości zmydlania estru, Studia, Politechnika
CH.F.L9, Studia, Politechnika
ZAKAAD CHEMI FIZYCZNEJ, Studia, Politechnika
C15, Studia, Politechnika
podstawowe informacje o ochronie prawnej wzorów przemysłowych, Studia - Politechnika Śląska, Zarządz
Sprawko spawalnictwo 1, studia, studia Politechnika Poznańska - BMiZ - Mechatronika, 2 semestr, obro
dziadek25, Studia, Politechnika
4 2 vademecum echosondy (w tym przykładzie wodnej), studia, studia Politechnika Poznańska - BMiZ - M
LABORKA7, Studia, Politechnika
Wyznaczanie stopnia asocjacji kwasu octowego w rozpuszczalni, Studia, Politechnika
deacon1, Studia, Politechnika
Destylacja wojtek, Studia Politechnika Poznańska, Semestr I, Chemia, Chemia laboratoria, Destylacja
Liczby przenoszenia jonów, Studia, Politechnika
103, Studia Politechnika Poznańska, Semestr II, I pracownia fizyczna, LABORKI WSZYSTKIE, FIZYKA 2, F
poprawione7, Studia, Politechnika
CHEMIA~7, Studia, Politechnika

więcej podobnych podstron