Ćwiczenie T2 _PTW_ MCM034003L
WYTWARZANIE ELEKTRONICZNYCH UKŁADÓW
GRUBOWARSTWOWYCH
INSTRUKCJA DO ĆWICZENIA LABORATORYJNEGO
prowadzący: mgr inż. Jan Macioszczyk, ul. Długa 61, bud. M-11, p. 123, e-mail:
Jan.Macioszczyk@pwr.edu.pl
1. Cel ćwiczenia
Celem ćwiczenia jest wyznaczenie wartości rezystancji powierzchniowej rezystorów
grubowarstwowych oraz określenie wpływu geometrii na wartość wyznaczanego parametru.
2. Program ćwiczenia
Studenci zostają podzieleni na dwie grupy. Jedna grupa zapoznaje się z technologią sitodruku.
W tym samym czasie druga grupa wykonuje pomiar rezystorów wykonanych na testowym
podłożu.
3. Pomiary
Na podłożach wykonano rezystory o różnych rozmiarach – o 2 szerokościach: (0,3; 0,6 mm)
i 6 długościach (0,3; 0,45; 0,6; 0,9; 1,2; 1,5 mm). W odpowiednich pozycjach w tabeli należy
umieszczać zmierzone wartości rezystancji.
Uwaga: W trakcie pomiarów należy dobrać właściwy zakres pomiarowy omomierza.
4. Opracowanie wyników
Dla rezystorów o tych samych rozmiarach należy obliczyć średnią wartość rezystancji
a następnie wyznaczyć średnią wartość rezystancji powierzchniowej R□.
Należy wykreślić wykres zależności R□ = f(l), gdzie l oznacza długość rezystora. Na jednym
wykresie należy umieścić dwie charakterystyki R□ = f(l) (dla szerokości rezystorów w=0,3
mm i w=0,6 mm).
Na podstawie otrzymanych wyników należy wyciągnąć wnioski na temat wpływu geometrii
rezystora na rezystancję powierzchniową.
5. Zagadnienia do przygotowania
- Etapy procesu wytwarzania elektronicznych układów grubowarstwowych
- Przykłady i charakterystyka podłoży stosowanych w technice sitodruku
- Rodzaje past do sitodruku oraz ich charakterystyka
- Podstawowe parametry elektryczne rezystorów (rezystancja, rezystywność, rezystancja na
kwadrat)
6. Pytania
