background image

Outlook 

 

 
 
 

 

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

PODSTAWY TECHNOLOGII CHEMICZNEJ 

 

NOWOCZESNE PROCESY UTLENIANIA – OZONOWANIE, UTLENIANIE 

FOTOKATALITYCZNE, REAKCJA FENTONA  

 

INSTRUKCJA DO ĆWICZEŃ LABORATORYJNYCH 

 
 
 
 
 
 
 
 

INSTRUKCJE PRZYGOTOWALI: 

DR INŻ. ADRIANA ZALESKA 

MGR INŻ. EWELINA GRABOWSKA 

 

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

 

GDAŃSK 2008

 

POLITECHNIKA GDAŃSKA 

WYDZIAŁ CHEMICZNY 

KATEDRA TECHNOLOGII CHEMICZNEJ 

 

background image

 

2

 
1. WPROWADZENIE................................................................................................................................................3

 

2. PRZEGLĄD METOD UTLENIAJĄCYCH...........................................................................................................3

 

2.1. Mokre utlenianie powietrzem...........................................................................................................................5

 

2.2.Utlenianie w stanie nadkrytycznym...................................................................................................................6

 

2.3.Utlenianie elektrochemiczne .............................................................................................................................8

 

2.4. Utlenianie przy pomocy ozonu i nadtlenku wodoru. ........................................................................................8

 

2.5. Reakcja Fentona ..............................................................................................................................................9

 

2.6. Fotoliza UV....................................................................................................................................................11

 

2.7 Proces z zastosowaniem H

2

O

2

/UV ..................................................................................................................11

 

2.8. Procesy z zastosowaniem ozonu.....................................................................................................................12

 

2.9. Procesy z zastosowaniem O

3

/UV....................................................................................................................13

 

2.10.Utlenianie w układzie O

3

/H

2

O

2

/UV...............................................................................................................13

 

2.11.Degradacja fotokatalityczna w wodnych zawiesinach półprzewodników. ....................................................13

 

3. LITERATURA .....................................................................................................................................................17

 

4. UTLENIANIE WODNEGO ROZTWORU FENOLU METODĄ FENTONA ...................................................18

 

4.1. Cel ćwiczenia .............................................................................................................................................18

 

4.2. Aparatura i sprzęt .......................................................................................................................................18

 

4.3. Budowa i działanie aparatury do utleniania metodą Fentona.....................................................................18

 

4.4. Sposób przeprowadzenia pomiarów...........................................................................................................18

 

4.5. Analityczna kontrola procesu.....................................................................................................................20

 

5. FOTOKATALITYCZNA DEGRADACJIA FENOLU W WODNEJ ZAWIESINIE TiO

2

.................................22

 

5.1. Cel ćwiczenia .............................................................................................................................................22

 

5.2. Aparatura i sprzęt .......................................................................................................................................22

 

5.3. Budowa i działanie aparatury do utleniania fotokatalitycznego.................................................................22

 

5.4. Sposób prowadzenia pomiarów .................................................................................................................22

 

5.5. Analityczna kontrola procesu.....................................................................................................................23

 

6. OZONOWANIE FENOLU - PODSTAWY TEORETYCZNE............................................................................25

 

6.1. Cel ćwiczenia .............................................................................................................................................25

 

6.2. Aparatura i sprzęt .......................................................................................................................................25

 

6.3. Budowa i działanie aparatury do ozonowania............................................................................................25

 

6.4. Sposób przeprowadzenia pomiarów...........................................................................................................25

 

6.5. Analityczna kontrola procesu.....................................................................................................................28

 

background image

1. WPROWADZENIE 
Odcieki można zdefiniować jako wody przesiąkowe ze składowisk odpadów komunalnych. 
Charakteryzują się one właściwościami redukcyjnymi i znacznie podwyższonymi parametrami 
biologicznego i chemicznego zapotrzebowania na tlen (BZT5 i ChZT), wysokimi stężeniami 
substancji rozpuszczonych, chlorków, siarczanów i związków azotu amonowego. 
W przeciwieństwie do ścieków komunalnych, odcieki ze składowisk odpadów trudno poddają 
się oczyszczaniu metodami biologicznymi. 
W ostatnim dziesięcioleciu podejmuje się intensywne badania nad znalezieniem skutecznych 
metod usuwania toksycznych zanieczyszczeń, które występują w wodzie, ściekach oraz 
odciekach zarówno w ilościach  śladowych, jak i w stężeniach relatywnie wysokich. Jedną z 
dostępnych obecnie technologii są Nowoczesne Procesy Utleniania (NPU, ang. AOP – 
Advanced Oxidation Processes), opierające się na reakcjach z udziałem rodników 
hydroksylowych OH

. Rodniki hydroksylowe są najsilniejszym utleniaczem, który można 

zastosować do oczyszczania wody i ścieków (potencjał utleniający wynosi 2,80 V). Powstają 
one między innymi podczas rozkładu ozonu w środowisku wodnym w łańcuchowych reakcjach 
rodnikowych, jak również podczas fotolizy nadtlenku wodoru, chloru w środowisku wodnym, 
wodnego roztworu Fe(III), podczas reakcji Fentona, lub pod wpływem promieniowania 
jonizującego. Rodniki hydroksylowe są mało selektywne i reagują z większością 
rozpuszczonych związków organicznych i wieloma nieorganicznymi, przy wysokiej stałej 
szybkości reakcji. Celem podwyższenia efektywności w wielu procesach utleniania stosuje się 
kilka różnych utleniaczy a reakcje z zastosowaniem rodników OH

 są tylko jednym z etapów 

procesu oczyszczania ścieków [Hoigne 1996]. NPU są istotne dla oczyszczania ścieków, 
odcieków, zanieczyszczonych wód powierzchniowych i gruntowych oraz do produkcji wody 
ultraczystej [Braun, 1996]. 

2. PRZEGLĄD METOD UTLENIAJĄCYCH 
Wśród nowoczesnych technologii utleniania wyróżnia się następujące procesy chemiczne i 
fotochemiczne (procesy utleniania indukowane światłem). 
Chemiczne metody degradacji: 

•  mokre utlenianie powietrzem (wet air oxidation - WAO), 

•  utlenianie w warunkach nadkrytycznych (supercritical water oxidation - SCWO), 

•  utlenianie elektrochemiczne, 
•  utlenianie przy pomocy ozonu i nadtlenku wodoru, 

•  reakcja Fentona 

Procesy fotochemiczne wykorzystywane do oczyszczania wody i ścieków: 

•  fotoliza UV, 
•  procesy z zastosowaniem UV/H

2

O

2

•  procesy z zastosowaniem UV/O

3

•  procesy z zastosowaniem UV/H

2

O

2

/O

3

•  degradacja fotokatalityczna w wodnych zawiesinach półprzewodników, 

•  reakcja foto-Fentona, 
•  procesy z zastosowaniem ultradźwięków [Prousek 1996]. 

 
Do wspólnych cech metod NPU zaliczamy: 

•  zanieczyszczenia organiczne ulegają rozkładowi do dwutlenku węgla, wody i 

amoniaku (lub azotu) oraz do prostych związków takich jak niskocząsteczkowe 
kwasy organiczne (kwas octowy i mrówkowy), 

•  w układach reakcyjnych generowany jest utleniacz o wysokim potencjale 

utleniającym. Dominuje mechanizm wolnorodnikowy, a jednym z najistotniejszych 

background image

 

4

reagentów jest rodnik hydroksylowy OH

 posiadający jeden z najwyższych 

potencjałów utleniająco-redukujących co pozwala na utlenianie nawet bardzo 
trwałych związków chemicznych, 

•  wysokie potencjały utleniające powodują, że NPU należą do metod nieselektywnych 

– utlenieniu ulegają praktycznie wszystkie grupy związków organicznych i 
nieutlenione formy związków nieorganicznych. 

 

Poszczególne metody NPU różnią się przede wszystkim sposobem generowania rodnika 
hydroksylowego. Utleniają związków organicznych zachodzi według jeden z trzech 
mechanizmów: 

•  rodnik hydroksylowy pobiera elektron od substancji organicznej tworząc nowy 

rodnik, sam redukując się jednocześnie do jonu hydroksylowego - jest to reakcja 
przeniesienia elektronu

•  odszczepienie od cząsteczki atomu wodoru. W trakcie tego procesu powstaje rodnik 

organiczny i woda - jest to reakcja przeniesienia atomu wodoru

•  addycja rodnika hydroksylowego do podwójnego wiązania w alkenach i w związkach 

aromatycznych, co prowadzi do powstania rodnika na atomie węgla - jest to reakcja 
addycji rodnika hydroksylowego

 

Pomimo wspólnego mechanizmu, techniki zaawansowanego utleniania można podzielić na 
dwie zasadnicze grupy: 

•  technologie przebiegające pod ciśnieniem atmosferycznym i w temperaturze 

otoczenia (min. ozonoliza i fotoutlenianie), 

•  technologie wymagające zastosowania podwyższonych temperatur i ciśnienia (mokre 

utlenianie i utlenianie z zastosowaniem wody w stanie nadkrytycznym).  

background image

 

5

2.1. Mokre utlenianie powietrzem 

Mokre utlenianie to proces wykorzystywany w technologii ochrony środowiska do usuwania 
zanieczyszczeń zawartych w ściekach, prowadzony w fazie ciekłej, w podwyższonej 
temperaturze (od 100 do 300°C ) i pod zwiększonym ciśnieniem ( od 0,5 do 20MPa), przy 
pomocy powietrza lub tlenu tłoczonego do środowiska reakcji. W tych warunkach w układzie 
reakcyjnym zapoczątkowany zostaje cykl przemian chemicznych, który polega na 
destruktywnym, wolnorodnikowym utlenianiu substratów i produktów przejściowych, 
prowadzący do degradacji związków organicznych na związki o mniejszej masie 
cząsteczkowej. 
W trakcie procesu węgiel organiczny utleniany jest do CO

2

, azot organiczny do amoniaku lub 

wolnego azotu, a chlorki organiczne i siarczki są przekształcane w nieorganiczne chlorki i 
siarczany. Skuteczność metody opiera się na dwóch korzystnych cechach tego systemu 
reakcyjnego: 

•  wraz ze wzrostem temperatury powyżej 393K rośnie w znaczący sposób rozpuszczalność tlenu 

w roztworach wodnych, 

•  podwyższanie temperatury zwiększa szybkość reakcji chemicznych i poprawia efektywność 

wytwarzania wolnych rodników w układzie. 

Te cechy mokrego utleniania powodują,  że jest to proces wysoce nieselektywny (reakcjom 
utleniania ulegają praktycznie wszystkie grupy związków organicznych obecne w roztworze), a 
wysoka temperatura procesu pozwala osiągnąć znaczące stopnie przereagowania substratów i 
produktów przejściowych sięgające od 70 aż do 100%. 
Mokre utlenianie powietrzem prowadzi się w układzie heterogenicznym gaz-ciecz w 
następujących etapach: 

a)  przenoszenie tlenu z fazy gazowej na granicę fazy gaz-ciecz, 
b)  przenoszenie tlenu rozpuszczonego z granicy faz gaz-ciecz do masy cieczy  

c) 

reakcja chemiczna pomiędzy tlenem rozpuszczonym a substratami

Proces mokrego utleniania jest efektywny, gdy: 

•  unieszkodliwia się tą metodą zanieczyszczenia toksyczne i niedegradowalne konwencjonalnymi 

metodami, w tym biologicznymi, 

•  stężenie zanieczyszczeń w odpadach ciekłych lub półpłynnych zawiera się w granicach 1,5%-

20% wagowych, 

•  ilość oczyszczanych ścieków nie jest mniejsza niż 15-20 m

3

/dobę. 

Na przestrzeni lat proces mokrego utleniania znalazł zastosowanie min.: 

•  do usuwaniu ze ścieków glikoli, detergentów, fenoli, naftoli i ich pochodnych, pestycydów oraz 

olejów i żywic syntetycznych, 

•  do oczyszczania strumieni ścieków, które są zbyt rozcieńczone do spalania i zbyt stężone do 

oczyszczania biologicznego, 

•  do oczyszczaniu ścieków pochodzących z przemysłu spirytusowego (głównie z procesu destylacji 

brzeczki fermentacyjnej), 

•  do utleniania ścieków zawierających cyjanki i nitryle pochodzące z procesów galwanizerskich, z 

pieców koksowniczych i z procesów syntezy farmaceutycznej, 

•  do utleniania glikoli polietylenowych i środków powierzchniowo czynnych, 
•  do regeneracji węgli aktywnych wykorzystywanych do oczyszczania ścieków zawierających 

toksyczne i odpadowe związki organiczne (Zarzycki 2002). 

W chwili obecnej na świecie pracuje ok. 400 przemysłowych instalacji mokrego utleniania. Do 
najbardziej popularnych należy instalacja ZIMPRO® (USA) działająca w oparciu o 
przepływowy reaktor wieżowy, który składa się z pionowego zbiornika zasilanego od dołu 
cieczą i gazem. Przepływ w reaktorze ma charakter laminarny, a produkty są odprowadzane z 
wierzchołka reaktora. Schemat instalacji ZIMPRO® przedstawiono na Rys. 1. 

background image

 

6

 

Rysunek 1 Schemat instalacji ZIMPRO®.

 

Ścieki zawierające  łatwo osadzające się zawiesiny można oczyszczać metodą WETOX®. 
Proces utleniania biegnie w wysokociśnieniowym reaktorze składającym się z poziomego 
zbiornika, podzielonego na sekcje, z których każda posiada niezależne zasilanie w powietrze 
oraz mieszadło. Urządzenie pracuje w oparciu o ideę kaskady reaktorów z idealnym 
wymieszaniem. Zaletą reaktora jest możliwość oczyszczania ścieków zawierających  łatwo 
sedymentujące zawiesiny, a wadą – zastosowanie mieszadeł, których wały napędowe 
wyprowadzone są przez ścianę reaktora na zewnątrz, co wymaga kosztownych uszczelnień i 
specjalnego łożyskowania. Schemat instalacji przedstawiono na Rys. 2. 

 

Rysunek 2 Schemat instalacji typu WETOX®.

 

2.2.Utlenianie w stanie nadkrytycznym 

W ostatnich latach odkryto szereg zastosowań dla znanego od dawna stanu termodynamicznego 
substancji jakim jest płyn nadkrytyczny. Szczególne miejsce jako medium obok dwutlenku 
węgla zajęła woda, zwłaszcza w obszarze zorientowanym na ochronę środowiska, gdyż okazała 
się ona niezwykle obiecującym  środowiskiem reakcji utleniania zanieczyszczeń i odpadów 
organicznych. Utlenianie w wodzie w stanie nadkrytycznym prowadzi się powyżej punktu 
krytycznego wody (>22 MPa i 374°C). 

background image

 

7

Podobieństwo utleniania w stanie nadkrytycznym do innych procesów utleniania na mokro jest 
jednak tylko formalne, ponieważ powyżej punktu krytycznego w mieszaninie reakcyjnej mamy 
do czynienia z procesem jednofazowym, a zatem kinetyka procesu leży wyłącznie w obszarze 
kinetyki chemicznej. Woda w stanie nadkrytycznym zmienia swoje własności jako 
rozpuszczalnik - z jonowych na niejonowe. Utleniania w wodzie nadkrytycznej w stosunku do 
klasycznych metod termicznych zapewnia praktycznie całkowitą mineralizację, stwarza 
możliwość prowadzenia procesu w obiegu zamkniętym, w środowisku bardziej 
skoncentrowanym, w niższej temperaturze, a w szczególności eliminuje efekt wtórnych emisji 
gazowych. W punkcie nadkrytycznym objętość wody jest 3-krotnie większa niż w warunkach 
normalnych (d=0.322 g٠cm

3

), a stała dielektryczna ε wynosi tylko 5,3. W efekcie, w 

warunkach prowadzenia procesu utleniania, w temperaturze około 400°C i dla ciśnienia 
pomiędzy 23-26 MPa, woda występuje w postaci gęstego gazu. Substancje organiczne, w tym 
również  węglowodory, oraz tlen cząsteczkowy stają się wzajemnie rozpuszczalne z wodą, 
podczas gdy sole nieorganiczne ulegają wytrąceniu z roztworu. Te unikalne właściwości wody 
w stanie nadkrytycznym pozwalają na kontakt tlenu i związków organicznych w jednej fazie, w 
której następuje gwałtowne i kompletne utlenianie substancji organicznych w temperaturach 
550-650°C. W tych warunkach stopień konwersji może wynosić ponad 99.99% dla 
jednominutowego czasu zatrzymania w aparacie.  
Utlenianie w stanie nadkrytycznym znalazło zastosowanie min.: 

•  do utleniania substancji uznanych za szczególnie niebezpieczne lub uciążliwe dla środowiska z 

powodu swojej toksyczności przy jednoczesnej odporności na utlenianie (nitrofenole, 
chlorowcopochodne alifatyczne i aromatyczne, polichlorowane bifenyle i dioksyny), 

•  do utylizacji substancji toksycznych i niebezpiecznych związanych z obroną narodową, 
•  w procesach utleniania np. tlenku węgla, wodoru, amoniaku, metanu czy kwasu octowego, 

• 

do utleniania odpadów, ścieków z przemysłu papierniczego oraz nadmiarowych osadów czynnych 
z oczyszczalni komunalnych i przemysłowych

Schemat instalacji procesu utleniania w wodzie nadkrytycznej (metoda MODEC®) 
przedstawiono na Rys. 3.  

 

Rysunek 3 Schemat procesu utleniania w wodzie nadkrytycznej. 

W ogólnym zarysie proces przebiega następująco: surówkę przygotowaną w zbiorniku (F) 
stanowi roztwór lub drobna zawiesina substancji organicznej. Jako utleniacz stosuje się ciekły 
tlen, który ze zbiornika (T) pompowany jest wysokociśnieniowa pompą przez parownik (P). 
Surówka i utleniacz spotykają się w reaktorze (R). Reaktor jako najważniejsza cześć instalacji, 
musi spełniać cztery podstawowe warunki: 

•  czas przebywania musi gwarantować dostatecznie głębokie utlenienie, 
•  odporność na korozyjne środowiska reakcji, 
•  warunki hydrodynamiczne uwzględniające wytrącanie się części produktów reakcji, 

• 

zdolność zagospodarowania ciepła reakcji.

 

background image

 

8

Strumień poreakcyjny, po opuszczeniu reaktora, oddaje ciepło strumieniowi w układzie 
wymiany ciepła (W). Elementy instalacji stanowi również układ końcowego chłodzenia (Ch) i 
rozdziału produktów reakcji S

1

, S

2

.  

2.3.Utlenianie elektrochemiczne 

Jedną z większych zalet elektrochemii jest to, że na powierzchni elektrod wytwarzane są i 
zużywane tylko elektrony, zapewniając tym samym "czyste reagenty" i nie przyczyniając się do 
dalszego wzrostu ilości i liczby związków chemicznych w środowisku, co często ma miejsce w 
innych procesach. Wadą procesu jest z kolei konieczność rozcieńczania ścieków oraz wymóg 
znacznego przewodnictwa właściwego roztworu. Większość badań laboratoryjnych prowadzi 
się w roztworach soli o stężeniu powyżej 0,l mol/dm

3

. W praktyce ścieki są mieszane z wodą 

morską (lub roztworem solanki) i poddawane elektrolizie z wydzielaniem chloru. Sole 
magnezowe obecne w wodach morskich oraz jony hydroksylowe powstające na katodzie 
prowadzą do powstawania wodorotlenku magnezu. Wodorotlenek magnezu jest ważnym 
czynnikiem w procesie flokulacji oraz sedymentacji rozproszonych cząstek, adsorpcji 
rozpuszczonych fosforanów i tworzenia nierozpuszczalnych związków fosforu. 

Oczyszczanie ścieków metodą elektrochemiczna stosuje się min.: 

•  do oczyszczania ścieków z przemysłu celulozowo-papierniczego i tekstylnego 
•  w celu konwersji radioaktywnych organicznych odpadów w substancje akceptowane z punktu 

widzenia ochrony środowiska 

•  do unieszkodliwienia substancji organicznych o różnym stanie skupienia i różnej 

rozpuszczalności jak również różnej zawartości wody. 

Mechanizm utleniania elektrochemicznego w roztworach wodnych jest bardzo złożony. 
Przyjmuje się, że istnieją trzy możliwe mechanizmy przebiegu procesu: 

•  elektrokoagulacja, 

•  elektroflotacja, 

•  elektroutlenianie. 

2.4. Utlenianie przy pomocy ozonu i nadtlenku wodoru. 

W wielu krajach ozon jest najszerzej stosowaną substancją wykorzystywaną do oczyszczania 
wody pitnej. Stosuje się go także do utleniania zanieczyszczeń w przypadku ścieków 
przemysłowych. Jedną z głównych zalet stosowania ozonu jest jego korzystny wpływ na 
środowisko. Produkty reakcji ozonu ze związkami chemicznymi stanowiącymi 
zanieczyszczenia wody są najczęściej nietoksyczne oraz biodegradowalne, a sam ozon rozpada 
się tworząc tlen. 

Ozon znany jest jako najbardziej selektywny utleniacz. Reakcje utleniania zapoczątkowane 
przez ozon w roztworach wodnych są  głównie reakcjami złożonymi. Ozon może reagować z 
substancjami organicznymi na dwa sposoby: bezpośrednio lub poprzez rodniki (utleniacz 
wtórny). Obecność substancji rozpuszczonych ma wpływ na sposób utleniania i tym samym na 
otrzymywane produkty końcowe. 

Powszechnie wiadomo, że ozon może reagować z substancjami organicznymi różnymi 
mechanizmami. Najprostszym z nich jest podstawowa reakcja ozonu z cząsteczką organiczną. 
Jednak większość reakcji zachodzi prawdopodobnie pomiędzy substancją organiczną a 
rodnikami hydroksylowymi. 

background image

 

9

RH + HO

.

-H

2

O

R                 ROO

.

.

O

2

RH                   R

.

.

+

-OH -

HOR  H

.

-H

+

 

Potencjał utleniania ozonu wynosi 2,07 V, natomiast potencjał utleniania nadtlenku wodoru 
wynosi 1,77 V. W związku z tym nadtlenek wodoru jest również stosowany jako utleniacz w 
procesach uzdatniania ścieków. Często stosuje się obydwa utleniacze razem. Zastosowanie 
nadtlenku wodoru znacznie obniża koszty uzdatniania ścieków w porównaniu z zastosowaniem 
samego ozonu. Prawdopodobny mechanizm reakcji przedstawiono poniżej: 

+

+

H

HOO

O

H

2

2

 

+

+

3

3

O

HOO

O

HOO

 

Ozonowanie stosuje się min.: 

•  do uzdatniania wody pitnej ( utlenianie i wytracanie związków żelaza i manganu, poprawa smaku, 

utlenienie związków organicznych itp.), 

•  do uzdatniania wody w basenach , 
•  do uzdatniania wody technologicznej (w obiegach chłodniczych, wody procesowej w przemyśle 

materiałów półprzewodnikowych, w zakładach pralniczych) 

•  do oczyszczania ścieków komunalnych , przemysłowych oraz odcieków (dezynfekcja ścieków 

komunalnych, utlenienie związków organicznych, poprawa pracy biofiltrów) 

2.5. Reakcja Fentona 

Ponad sto lat temu, J.H. Fenton (1884) odkrył, że jony Fe

2+

 silnie katalizują reakcję utleniania 

nadtlenkiem wodoru niektórych kwasów organicznych. Późniejsze badania wykazały,  że 
mieszanina H

2

O

2

 i Fe

2+

 jest w stanie utlenić wiele innych substancji organicznych w 

umiarkowanych temperaturach i pod normalnym ciśnieniem. Reakcja stała się jedną z 
najbardziej skutecznych technik utleniania NPU. Obecnie do procesów NPU wykorzystujących 
nadtlenek wodoru, oprócz klasycznej reakcji Fentona, zalicza się również reakcje w układach 
H

2

O

2

/Fe

2+

, H

2

O

2

/Fe

2+

/UV oraz H

2

O

2

/Fe

3+

/UV. Badania nad mechanizmem utleniania wykazały 

powstawanie rodników hydroksylowych poprzez katalityczny rozkład nadtlenku wodoru w 
roztworze kwaśnym. W wyniku reakcji Fentona powstaje jon żelazowy, rodnik hydroksylowy 
(OH

) oraz jon hydroksylowy (OH

-

). 

+

+

+

+

+

HO

OH

Fe

O

H

Fe

3

2

2

2

 

RH

R

Fe

Fe

R

H

⎯→

+

+

+

+

+

3

2

 

Efekt utleniający reagentów Fentona silnie zależy od: 

•  pH roztworu, 
•  stosunku stężeń H

2

O

2

 i Fe

2+

•  temperatury, 
•  ilości nadtlenku wodoru w stosunku do ładunku zanieczyszczeń, 

• 

początkowego stężenia jonów żelaza.

 

Wraz ze wzrostem stężenia jonów żelaza oraz nadtlenku wodoru wydajność reakcji utleniania 
rośnie, jednakże zbyt wysoki stężenie obu reagentów mogą spowodować spadek szybkości 
reakcji. Proces utleniania fenolu przebiegał z najwyższą wydajnością przy stosunku molowym 
fenol : katalizator : H

2

O

2

 równym 1:1:3. 

Zakres pH, w którym następuje utlenianie, wynosi od 3 do 5, ale optymalna wartość pH dla 

background image

 

10

reakcji Fentona zawiera się pomiędzy wartością 3 a 4. Natomiast wagowy stosunek ilości 
katalizatora do nadtlenku wodoru wynosi 1:5 [Bigda 1995].  

Odczynnik Fentona jest efektywnym utleniaczem wielu substancji organicznych i prawie 
wszystkie związki organiczne zawierające wodór mogą być utleniane przez rodniki 
hydroksylowe, wytwarzane w reakcji Fentona. Do grupy związków chemicznych, dla których 
reakcja Fentona nie może być skutecznie stosowana należą np. kwas octowy, aceton, 
chloroform, chlorem metylenu, n-parafiny. 

Główną zaletą procesu Fentona, w porównaniu z innymi metodami oczyszczania ścieków, jest 
brak pozostałości H

2

O

2

 w układzie poreakcyjnym oraz katalityczne tylko ilości Fe

2+

 stosowane 

w reakcji. Ponadto reakcję Fentona prowadzi się w temperaturze otoczenia lub trochę wyższej 
(293-303K) wykorzystując do ogrzania mieszaniny ciepło reakcji. Stanowi to istotną zaletę tego 
procesu, ponieważ nie wymaga instalowania wymiennika ciepła w reaktorze, a energia jest 
wykorzystywana na mieszanie i dozowanie reagentów. Reakcja Fentona jest stosowana 
zarówno do oczyszczania wstępnego, jak też do obniżenia ChZT przed dalszym biologicznym 
oczyszczaniem  ścieków, lub w celu mineralizacji toksycznych i trudno biodegradowalnych 
zanieczyszczeń.  

Proces Fentona zastosowano do kilku rodzajów ścieków: 

•  wód procesowych powstających podczas syntezy chemikaliów, leków, insektycydów, 

barwników, materiałów wybuchowych (TNT, RDX); 

•  ścieków z rafinerii; 
•  ścieków z produkcji polimerów zawierających fenol czy formaldehyd; 
•  ścieków powstających w przemyśle drzewnym zawierających m.in. krezotole i związki miedzi; 

• 

ścieków powstających w wyniku oczyszczania gleby  [Bigda 1995].

 

Utlenianie ścieków w warunkach przemysłowych prowadzi się w bezciśnieniowych reaktorach 
o działaniu okresowym. Typowym reaktorem jest bezciśnieniowy zbiornik z mieszadłem. 
Sterowanie procesem odbywa się na podstawie wskazań czujników, które mierzą w sposób 
ciągły temperaturę, pH oraz potencjał utleniająco-redukujący. Schemat reaktora do utleniania 
ścieków przy użyciu odczynnika Fentona przedstawia Rys. 4.  

 

Rysunek 4 Schemat reaktora do prowadzenia reakcji Fentona.

 

Dozowanie reagentów odbywa się za pomocą pomp dozujących. Zbiornik napełnia się najpierw 
ściekiem, a następnie koryguje pH (przed dodanie katalizatora) za pomocą rozcieńczonego 
kwasu siarkowego. 

Podsumowując, reakcja Fentona umożliwia: 

•  rozkład związków organicznych, 
•  redukcję toksyczności, 

background image

 

11

•  poprawę biodegradowlaności, 
•  zmniejszenie BZT/ChZT, 
•  redukcje OWO, 
•  odbarwienie, usuwanie zapachu. 

2.6. Fotoliza UV 

Fotoliza UV jest pierwszą fotochemiczną metodą zastosowaną do degradacji zanieczyszczeń. 
Bezpośrednia fotoliza polega na wzbudzeniu cząsteczki przez absorpcję fotonu, czego efektem 
jest reakcja chemiczna. Bezpośrednim efektem działania promieniowania UV może być: 

•  przekształcenie związków organicznych w inne, 
•  zerwanie wiązań chemicznych, 

• 

całkowita degradacja związków organicznych

Promieniowanie UV powoduje dysocjację związków utleniających i tworzenia się wysoce 
reaktywnych rodników zdolnych do degradacji zanieczyszczeń organicznych. Bezpośrednia 
degradacja fotochemiczna za pomocą promieniowania UV następuje tylko w przypadku, kiedy 
światło padające jest absorbowane przez zanieczyszczenie. Wysoko fluorowane lub chlorowane 
nasycone związki alifatyczne mogą być efektywnie eliminowane poprzez homolizę wiązań 
węgiel-halogen. Odpowiednie energie wzbudzenia wynoszą < 190 nm dla wiązań C-F i 210-
230 nm dla wiązań C-C1.  

Fotoliza UV jest wykorzystywana do eliminacji: 

•  chlorowanych i nitrowanych związków aromatycznych,  
•  fenoli, 

• 

halogenowanych związków alifatycznych

2.7 Proces z zastosowaniem H

2

O

2

/UV 

W procesie pogłębionego utleniania z udziałem nadtlenku wodoru i promieniowania UV 
rodniki hydroksylowe są generowane w wyniki fotolizy nadtlenku wodoru. Powszechnie 
akceptowany mechanizm fotolizy H

2

O

2

 to homoliza wiązania tlen-tlen z utworzeniem dwóch 

rodników hydroksylowych. 

Zaletą zastosowania H

2

O

2

 jako utleniacza, w porównaniu z innymi metodami chemicznego lub 

fotochemicznego oczyszczania ścieków, jest jego powszechna dostępność, stabilność 
termiczna, całkowita rozpuszczalność w wodzie, oraz znacznie niższy koszt niż w przypadku 
zastosowania np. ozonu. Główną wadą wszystkich procesów utleniania degradacyjnego, 
opartych na reaktywności rodników hydroksylowych, jest efektywne wychwytywanie rodników 
HO

 przez jony HCO

3

-

 i CO

3

2-

, obecne w wodach i ściekach. W efekcie powstają anionorodniki 

karboksylowe, również o właściwościach utleniających, ale ich potencjał utleniający jest niższy 
od potencjału rodników hydroksylowych. W procesach degradacji w układzie H

2

O

2

/UV 

najczęściej stosowanym źródłem  światła jest niskociśnieniowa lampa rtęciowa. Emituje ona 
głównie promieniowanie o długości fali 253,7nm, co stanowi ok. 70% energii świetlnej 
emitowanej przez lampę. Jeżeli do roztworu wodnego nadtlenku wodór, naświetlanego 
promieniowaniem UV, zostaną wprowadzone substancje organiczne, to zostaną one włączone 
w cykl reakcji łańcuchowych rozkładu H

2

O

2

.(Rys.5). 

background image

 

12

 

Rysunek 5 Mechanizm utleniania w układzie H

2

O

2

/UV.

 

2.8. Procesy z zastosowaniem ozonu 

Ozon może reagować z fenolem na dwa sposoby [Langlais 1991]: 

•  w środowisku kwaśnym lub obojętnym - podczas reakcji zachodzi atak elektrofilowy 

utleniacza na fenol, w pozycji orto lub para, 

•  w środowisku obojętnym lub zasadowym - podczas reakcji następuje atak elektrofilowy 

na jon fenolanowy lub reakcja przebiega mechanizmem rodnikowym, inicjowana 
zarówno przez grupę hydroksylową, jak i jon fenolanowy. 

           Fenole  łatwo i gwałtownie ulegają utlenianiu przez ozon. Utlenianie fenolu przebiega 
wielostopniowo z powstawaniem produktów pośrednich utlenianych do coraz mniej złożonych 
związków, niewyczuwalnych organoleptycznie w wodzie. Stopień utleniania fenolu ozonem 
jest wprost proporcjonalny do dawki ozonu. W przypadku małych dawek produktami utleniania 
fenoli są hydrochinony [Kowal 1996]. Początkowe produkty utleniania wykazują większą 
toksyczność od produktu wyjściowego, dlatego musi być dostarczona odpowiednia ilość ozonu 
w celu utlenienia pośrednich produktów. Warunki te są bardzo istotne w przypadku 
konwencjonalnego ozonowania [Langlais 1991]. 
          Podczas rozpadu ozonu pojawiają się następujące produkty (rysunek l) [Langlais 1991]: 

•  produkty będące rezultatem hydroksylowania pierścienia, takie jak chinony i difenole, 
•  produkty pochodzące z rozbicia łańcucha, takie jak kwas mukonowy i pochodne, 
•  końcowe produkty utleniania, takie jak kwas glioksylowy, kwas szczawiowy, kwas 

mrówkowy i glioksal. 

Produkty takie jak pirokatechina, hydrochinon, pojawiają się na początku przebiegu reakcji i 
ich stężenie osiąga maksymalną wartość po około 7,5 min przebiegu procesu. Po około 40 min 
reakcji swoje maksymalne stężenie osiągają kwas maleinowy i mukonowy, produkty te ulegają 
rozpadowi po około 2 godzinach trwającego procesu. Stężenie produktów końcowych wzrasta 
ze zmniejszeniem się stężenia fenolu, osiągają one maksymalne stężenie po około 1,5 godzinie 
ozonowania, a nawet po czasie 3 godzin nie zostają całkowicie rozłożone [Trapido 1995].  
Do otwarcia pierścienia fenolanowego potrzeba od 4 do 6 moli ozonu na mol fenolu.  
Reakcje zachodzące pomiędzy fenolem i ozonem w wodnym roztworze wyglądają następująco: 
C

6

H

5

OH ↔ C

6

H

5

O

-

 + H

+

 

C

6

H

5

OH + OH

-

 ↔ C

6

H

5

O

-

 + H

2

C

6

H

5

O

-

 + O

3

 → 

Produkty 

 

Proces całkowitego utleniania fenolu można opisać ogólnym równaniem: 
C

6

H

5

OH + 14 O

3

 → 6 CO

2

 + 3 H

2

O + 14 O

 

          Istotny jest fakt, że zamiast fenolu reaguje z ozonem jon fenolanowy, co ma duży wpływ 
na szybkość reakcji [Kowal 1996]. 

background image

 

13

 

2.9. Procesy z zastosowaniem O

3

/UV 

Utlenianie związków za pomocą ozonu wspomaganego przez promieniowanie UV jest jednym 
z najczęściej stosowanych procesów utleniania różnego rodzaju zanieczyszczeń. Połączone 
działanie ozonu i promieniowania UV należy również do technik najbardziej zaawansowanych 
w aspekcie technologicznym. Istotą procesów z zastosowaniem ozonu i UV jest fotoliza ozonu 
powodująca powstawanie H

2

O

2

W ten sposób połączenie UV z ozonowaniem jest bardziej efektywne niż suma tych dwóch 
indywidualnych procesów (efekt synergistyczny). Metoda ta wykorzystywana jest w przypadku 
związków odpornych na samo ozonowanie. Jest ona najczęściej stosowaną metodą NPU dla 
szerokiej gamy zanieczyszczeń. Proces stosuje się w układzie I lub II-stopniowym. W układzie 
jednostopniowym  ścieki są jednocześnie poddawane działaniu ozonu i naświetlane 
promieniowaniem UV. W układzie II-stopniowym ścieki są poddawane ozonowaniu w I 
reaktorze i następnie częściowo już utlenione, wraz z ozonem resztkowym, przechodzą do II 
reaktora, gdzie są naświetlane promieniowaniem UV. 

Wadą metody, jak we wszystkich metodach wykorzystujących ozon, jest niska rozpuszczalność 
ozonu w wodzie i związana z tym słaba wymiana masy, duży koszt generowania ozonu oraz 
jego korozyjność. Przeprowadzone badania na rzeczywistych ściekach min. z przemysłu 
włókienniczego (zarówno ogólnozakładowego jak i z pralni chemicznych) wykazały, że łączne 
stosowanie ozonu i promieniowania UV pozwala osiągnąć lepsze rezultaty rozkładu 
zanieczyszczeń. Uzależnione jest to od rodzaju ścieku oraz analizowanego parametru. 
Najsilniejszy efekt wspomagający widoczny jest w przypadku ścieków silnie stężonych oraz 
gdy analizuje się ich odbarwienie (Kos,1998; Perkowski,200). 

2.10.Utlenianie w układzie O

3

/H

2

O

2

/UV 

Przebieg procesu przy jednoczesnym działaniu trzech czynników jest taki sam pod względem 
chemizmu, jak przy równoczesnym działaniu ozonu i promieniowania UV. W tym przypadku 
stężenie nadtlenku wodoru w roztworze jest jednak wyższe. Wynika ono zarówno z ilości 
pierwotnie wprowadzonej jak i z reakcji bezpośredniego tworzenia H

2

O

2

. Rodniki 

hydroksylowe podczas utleniania zanieczyszczeń za pomocą O

3

/H

2

O

2

/UV powstają zgodnie z 

równaniami: 

H O

HOO

H

2

2

+

+

 

2

2

3

O

O

HO

HOO

O

+

+

+

 

2

3

2

3

O

O

O

O

+

+

 

2

2

3

O

HO

HO

O

H

O

+

+

+

 

Dodatkowo rodniki hydroksylowe są generowane w reakcji fotochemicznej. Prowadzone są 
pilotowe badania zastosowania tej metody na skalę techniczną. 

2.11.Degradacja fotokatalityczna w wodnych zawiesinach półprzewodników. 

Metodą cieszącą się coraz większym zainteresowaniem jest fotokataliza heterogeniczna z 
wykorzystaniem zawiesin półprzewodników. Na powierzchni drobin półprzewodnika zachodzi 
fotokatalityczne utlenianie zaadsorbowanej substancji, prowadzące do jej rozpadu. Na przebieg 
procesu degradacji ma wpływ szereg czynników. Najważniejsze to: 

•  dobór właściwego półprzewodnika, 
•  odpowiednie przygotowanie jego powierzchni, 

background image

 

14

•  natężenie padającego światła, 
•  rozpuszczalnik, 

•  temperatura, 
•  dodatkowe substancje znajdujące się w roztworze, 

• 

pH roztworu (w przypadku roztworów wodnych), [Zarzycki, 2002].

 

Generalnie reakcję fotokatalizy z zastosowaniem półprzewodników można przedstawić za 
pomocą równania: 

 

Większość danych na temat reakcji fotokatalitycznych z zastosowaniem zawiesin 
półprzewodników dotyczy tlenków metali (TiO

2

, ZnO, SnO

2

, WO

3

), siarczków (CdS, ZnS), 

selenków (CdSe) oraz tellurków (CdTe). Z przebadanych półprzewodników dwutlenek tytanu 
wykazał najwyższą aktywność w procesach fotokatalizy. Ponadto TiO

2

, absorbujący tylko 

promieniowanie UV (energia pasma wzbronionego E

bg

 = 3,2eV) jest tani, nierozpuszczalny w 

większości środowisk reakcji, stabilny fotochemicznie i nietoksyczny. 
Naświetlanie powierzchni półprzewodnika promieniowaniem o odpowiedniej długości fali 
powoduje przeniesienie elektronu z niskoenergetycznego pasma walencyjnego do 
wysokoenergetycznego pasma przewodnictwa. 

TiO

2

 

2hv→ 2h

+

 + 2e

-

 

Wygenerowane w ten sposób nośniki  ładunków (dziury w paśmie walencyjnym - h

vb

+

, oraz 

elektrony w paśmie przewodnictwa e

cb

-

) mogą ulegać rekombinacji w sieci krystalicznej, 

powodując fluorescencję lub wydzielenie ciepła, lub mogą migrować na powierzchnię 
katalizatora, gdzie biorą udział w reakcjach chemicznych (utleniania lub redukcji). Na granicy 
faz elektron – dziura mogą brać udział w reakcji redox z zaadsorbowanymi z roztworu 
wodnego cząsteczkami H

2

O, OH

-

, cząsteczkami związków organicznych oraz O

2

. Rodniki 

hydroksylowe HO

 powstają w reakcji utleniania pomiędzy dziurą oraz H

2

O lub OH

-

. Elektron 

może brać udział w reakcji redukcji z zaadsorbowanym O

2

(aq) generując O

2

-

, który następnie 

może generować dodatkowo H

2

O

2

 oraz HO

. Schemat mechanizmu fotoaktywacji cząsteczki 

tlenku tytanu przedstawiono na Rys. 6. 

pw

 

Rysunek 6 Schemat mechanizmu fotoaktywacji cząsteczki tlenku tytanu (IV).

 

Fotokatalityczna aktywność TiO

2

 pod wpływem promieniowania UV pozwoliła na 

wykorzystanie tlenku tytanu do redukcji lub eliminacji zanieczyszczeń w powietrzu (np. NO

x

 

czy SO

2

), dymu papierosowego oraz lotnych związków emitowanych przez materiały 

background image

 

15

budowlane. Wysoka aktywność fotokatalityczna pozwala ponadto na zastosowanie TiO

2

 do 

zabezpieczenia przez zabrudzeniami powierzchni ścian (np. w tunelach), szyb okiennych, lamp 
oraz tkanin (np. pokryć namiotów). Reaktywność w reakcji fotodestrukcji jest wystarczająca do 
niszczenia bakterii, w związku z tym TiO

2

 jest dodawany do cementów oraz takich elementów 

wyposażenia jak kafelki w pomieszczeniach operacyjnych, celem utrzymania czystości. 
Wybrane przykłady zastosowanie TiO

2

 przedstawiono w Tab. 1. 

Tabela 1 Przykłady produktów, w których wykorzystano fotokatalityczne właściwości TiO

2

 

Produkt Firma 

Systemy zawierające TiO

2

 do oczyszczania 

powietrza np. eliminacja SO

2

 oraz NO

x

 

Sharp Co, Ltd. 

Daikin Ind., Ltd. 

Toyota Home, Ltd., 

Furukawa Kikai-Kinzoku, Inc. 

Bały papier zawierający TiO

2

 

Mitsubishi Paper Mills, Inc. 

Włókna tekstylne (zawierające TiO

2

) o działaniu 

bakteriobójczym 

Kurare Inc. 

Powierzchnie samoczyszczące (superhydrofilowe) 
– szyby samoczyszczące 

Pilkington 

Tkaniny namiotowe z samoczyszczącą 
powierzchnią 

Taiyo Ind. Ltd. 

 

background image

 

16

 
 

 

Rysunek 7 Schemat rozpadu fenolu uwzględnieniem produktów pośrednich [Langlais 1991].

 

 

background image

3. LITERATURA 

Barrat P.A., Baumgartl A., Hannay N., Vetter M., Xiong F. (1996), CHEMOX™ Advanced Waste 
Water Treatment with the Impinging Zone Reactor, „Oxidation Technologies for Water and 
Wastewater Treatment" Goslar, Germany, May 12-15 1996 
Bigda R.J., Consider Fenton's chemistry for wastewater treatment, Chemical Engineering Progress 
12, 62-66, 1995 
Braun A.M., Oliveros E. (1996), How to evaluate photochemical methods for water treatment 
Intemational Conference „Oxidation Technologies for Water and Wastewater Treatment" Goslar, 
Germany, May 12-15 1996 
Fox M.A., Dulay M.T.,  Heterogeneous photocatalysis, Chem. Rev. 93, 341-357, 1993 
Hoigne J., Intercalibration of OH radical sources and water quality parameters. Intemational 
Conference „Oxidation Technologies for Water and Wastewater Treatment" Goslar, Germany, May 
12-15 J996 Goslar, Germany, May 12-15 1996 
Guha AK., Shanbhag P. V., Sirkar K.K., Multiphase ozonołysiis oforganics m wastewater by a novel 
membranę reactor, AlChE Joumal 41 (8), (1995)  
Kowal AL., Świderska-Bróż M., Oczyszczanie wody, PWN Warszawa (1996) 
Langlais B, Reckhow D.A., Brink D.R., Ozone in water treatment. Application and Engineering, 
AWWA Research Foundation & Lewis Publisher (1991)  
Legrini O., Oliveros E., Braun A. M., Photochemical Processes for Water Treatment, Chem. Rev. 93, 
671-698, 1993, 
Luck F., A review ofindustrial catałytic wet air Oxidation processes, Catalysis Today 27, 195 -202 
(1996) 
Prousek J. (1996), Advanced Oxidation process for water treatment. Chemical process, Chem. Listy 

90, 229-23 

Prousek J. (1996), Advanced Oxidation process for water treatment. Photochemical process, Chem. 

Listy 90, 307-315 
Roche P., Volk C., Carbonnier F., Paillard H., Ozone Science & Engineering 16, 135-55 (1994) 
Trapido M., Yaressinina Y., Munter R., Ozonation of phenols in wastewater from oil shale chemical 
treatment, Environmental Technology 16 (30), 233-241 (1995) 
Zarzycki R., Imbierowicz M., Rogacki G., Filipiak T., Nowoczesne metody unieszkodliwiania 
odpadów. Mat. seminarium naukowego "Ochrona środowiska w przemyśle - techniki i technologie". 
Łódź, (1996) 
„Zaawansowane techniki utleniania w ochronie środowiska” pod redakcją Romana Zarzyckiego 
Łódź, (2002) 

background image

 

18

4. 

UTLENIANIE WODNEGO ROZTWORU FENOLU METODĄ FENTONA

 

4.1. Cel ćwiczenia 
Celem  ćwiczenia jest zbadanie kinetyki utleniania roztworu wodnego fenolu w zadanych 
warunkach procesu Fentona. 

4.2. Aparatura i sprzęt 
1. Zestaw aparatury do utleniania (Rys. 8) 
2. Kolorymetr spektralny "Spekol" z przystawką do pomiaru absorpcji 
3. pH-metr z rejestratorem 
4. Waga analityczna 
5. Zestaw aparatury do oznaczania ChZT 
6. Szkło i odczynniki 

4.3. Budowa i działanie aparatury do utleniania metodą Fentona 

 

Do badania kinetyki utleniania metodą Fentona stosuje się zestaw aparaturowy 

przedstawiony schematycznie na rys. 8. Modelowy roztwór ścieków umieszcza się w szklanym 
reaktorze (1). Roztwory katalizatora oraz nadtlenku wodoru umieszczone są w wkraplaczach 
(2). Zawartość kolby reakcyjnej jest mieszana mieszadłem magnetycznym (3). 

4.4. Sposób przeprowadzenia pomiarów 

 

Utlenienie roztworu fenolu 
 

Pomiar kinetyki utleniania fenolu metodą Fentona przeprowadza się zgodnie z procedurą: 
a)  napełnić szklany reaktor (1) 1dm

3

 modelowego roztworu fenolu o stężeniu ok. 50 

mg/dm

3

 oraz 0,5dm

wody destylowanej. Odczyn roztworu należy uprzednio 

doprowadzić do pH = 3-4 za pomocą roztworu kwasu siarkowego. Kwaśny odczyn 
roztworu zapobiega wytrącaniu się wodorotlenku żelaza po dodaniu katalizatora, 

b)  włączyć mieszadło magnetyczne i ustawić żądaną prędkość obrotów, 
c)  jeden z wkraplaczy (2) napełnić roztworem siarczanu żelazawego do objętości 10 cm

3

Roztwór katalizatora sporządza się następująco: 4,6 g FeSO

4

·7H

2

O rozpuścić w wodzie 

destylowanej, skorygować pH za pomocą kwasu siarkowego do wartości 3-4 i 
rozcieńczyć do objętości 100 cm

3

 wodą destylowaną, 

d)  drugi wkraplacz (2) napełnić 30% roztworem nadtlenku wodoru do objętości 1,5 cm

3

e)  dodawać równocześnie oba roztwory, intensywnie mieszając,  
f)  utlenianie prowadzić przez 15 min., pobierając próbki roztworu do kolbek miarowych o 

objętości 25 cm

3

 co 5 min.(NIE ZAPOMINAJĄC O PRÓBCE „0”), z czego 10 cm

3

 

przeznaczyć do oznaczania fenolu, 10 cm

3

 do wyznaczania ChZT, a pozostałe 5 cm

3

 do 

ewentualnego powtórzenia któregoś z dwu oznaczeń – uwaga: próbki po pobraniu 
zalkalizować (za pomocą roztworu NaOH) w celu zatrzymania reakcji. 

background image

 

19

 

Rysunek 8 Schemat aparatury do utleniania metodą Fentona.

 

1 -  kolba reakcyjna 
2 – wkraplacze 
3 – mieszadło magnetyczne  

background image

Wyniki pomiarów zebrać w tabeli według wzoru: 

Tabela 1.

 Wyniki pomiarów i obserwacji utleniania fenolu 

ilość Fe(NH

4

)

2

(SO

4

)

2

 zużytego do miareczkowania próby kontrolnej ............................cm

3

 

normalność roztworu siarczanu żelazowo-amonowego .................................................... N 
objętość próbki ścieków użytej do oznaczania .................................................................. cm

3

 

 

Czas utleniania 

[min.] 

 

Absorbancja 

 

Stężenie fenolu  

[mg/dm

3

 

Ilość siarczanu 

żelazawo-

amonowego 

[cm

3

]

ChZT 

[mg O

2

/dm

3

 ] 

 

 

 

 

 

 

4.5. Analityczna kontrola procesu 

 

Oznaczanie fenolu w ściekach 
 

Oznaczanie fenolu polega na sprzęganiu fenolu z dwuazowaną p-nitroaniliną w roztworze 

alkalicznym. Powstający barwny związek oznacza się kolometrycznie (długość fali 480 nm).  
Odczynniki: 

1. roztwór p-nitroaniliny – 0,69 g p-nitoaniliny rozpuścić w 6,5 cm

3

 stężonego (36%) kwasu 

solnego na gorąco i rozcieńczyć do objętości l dm

3

 wodą destylowaną, 

2. roztwór 1N Na

2

CO

3

 - rozpuścić 53,1 g krystalicznej sody w wodzie destylowanej i dopełnić 

do kreski w kolbie miarowej o pojemności l dm

3

3. 2% roztwór azotynu sodowego.  
Wykonanie oznaczenia: 

Roztwory do wykonania krzywej wzorcowej w granicach stężeń l - 10 mg fenolu na l dm

3

 

roztworu sporządza się następująco: do kolby miarowej o objętości 100 cm

3

 wlewa się 

określoną ilość wzorcowego roztworu fenolu i dodaje kolejno 15 cm

3

 PNA i 4 cm

3

 roztworu 

azotynu sodowego. Po dokładnym wytrząsaniu i ochłodzeniu dodaje się 30 cm

3

 roztworu 

węglanu sodowego, uzupełnia się do kreski wodą destylowaną, po czym mierzy na Specolu 11 
absorbancję. Dla wyeliminowania wpływu substancji mineralnych i organicznych zawartych w 
wodzie wodociągowej roztwory z fenolu należy przygotować w wodzie destylowanej. Stężenie 
fenolu w próbkach poreakcyjnych oznacza się jak wyżej pobierając 10 cm

3

 roztworu. 

Oznaczanie ChZT 

 

Chemiczne zapotrzebowanie tlenu oznacza się metodą dwuchromianową. Podstawą 

oznaczania są reakcje: 
(CHO) + Cr

2

O

7

2-

 + H

+

 = 2 Cr

3+

 + CO

2

 + H

2

6 Fe

2+

 + Cr

2

O

7

2-

 + 14 H

+

 = 6 Fe

3+

 + 2 Cr

3+

 + 7 H

2

 
Odczynniki: 
1. Kwas siarkowy z AgSO

4

. Do l dm

3

  H

2

SO

4

 cz.d.a. (c.wł. 1.84) dodać 11 g AgSO

4

 cz.d.a., 

wymieszać, pozostawić odczynnik na 2 dni w celu rozpuszczenia się AgSO

4

2. Roztwór wskaźnika ferroiny. Rozpuścić 1,485 g 1,10-fenantrolinyjednowodnej oraz 0,70 g 
FeSO

4

 · 7 H

2

O w wodzie i rozcieńczyć do 100 cm

3

3. Dwuchromian potasowy 0,25 N. Rozpuścić 12,259 g K

2

Cr

2

O

7

 ch.cz., wysuszonego 

uprzednio w temp. 103°C przez 2 godziny, w wodzie destylowanej i dopełnić do l dm

3

,

  

4. Roztwór siarczanu żelazawo-amonowego 0,1 N. Rozpuścić 39 g Fe(NH

4

)

2

(SO

4

)

2

·6H

2

background image

 

21

cz.d.a. w wodzie destylowanej. Dodać 20 cm

3

 H

2

SO

4

 cz.d.a. (c.wł. 1.84), ostudzić i rozcieńczyć 

do l dm

3

. Miano tego roztworu musi być sprawdzone dwuchromianem potasowym w. dniu 

oznaczenia. W celu ustalenia normalności rozcieńczyć 10 cm

3

 0,25 N roztworu K

2

Cr

2

O

7

 do 

około 100 cm

3

 w kolbie stożkowej. Dodać 30 cm

3

 stęż. H

2

SO

4

 ostudzić. Miareczkować 

roztworem siarczanu żelazawo-amonowego, stosując 2-3 krople wskaźnika ferroiny do zmiany 
zabarwienia wskaźnika z niebiesko-zielonego na czerwonawo-niebieski. Obliczyć normalność 
odczynnika ze wzoru: 
 

2

4

2

4

3

7

2

2

3

)

(

)

(

25

,

0

SO

NH

Fe

cm

O

Cr

K

cm

n

=

 

 

Wykonanie oznaczenia:  

 

W kolbie okrągłodennej umieścić 10 cm

3

 próbki rozcieńczonej do 20 cm

3

 wodą 

destylowaną, wymieszać. Następnie dodać parę kawałków wyprażonego pumeksu i 10 cm

3

 

0,25 N roztworu K

2

Cr

2

O

7

. Dodać, mieszając, 30 cm

3

 odczynnika H

2

SO

4

 z AgSO

4

 i połączyć 

natychmiast kolbę z chłodnicą zwrotną. Ogrzewać kolbę w ciągu 20 min., utrzymując 
zawartość w stanie łagodnego wrzenia. Po zakończeniu utleniania kolbę ostudzić i spłukać 
wewnętrzną część chłodnicy wodą destylowaną. Dopełnić zawartość kolby do 150 cm

3

 wodą 

destylowaną, ostudzić do temperatury pokojowej, dodać 2-3 krople wskaźnika ferroiny 
i odmiareczkować nadmiar dwuchromianu mianowanym roztworem siarczanu żelazawo-
amonowego. W toku oznaczania należy stale stosować taką samą ilość roztworu ferroiny. Za 
końcowy punkt miareczkowania  przyjąć  ostrą zmianę  zabarwienia z niebieskawozielonego na 
czerwonawoniebieskawe. 
Wykonać równolegle próbę kontrolną, stosując taki sam zestaw odczynników i 20 cm

3

 wody 

destylowanej. Wartość ChZT obliczyć ze wzoru: 
 

V

n

b

a

X

8000

)

(

=

 [mg/dm

3

 ChZTchr.] 

 
gdzie:  
a - ilość siarczanu żelazawo-amonowego zużytego do zmiareczkowania próby kontrolnej, cm

3

 

b - ilość siarczanu żelazawo-amonowego zużytego do zmiareczkowania próbki ścieków, cm

3

 

n - normalność roztworu siarczanu żelazawo-amonowego 
V - objętość próbki ścieków użytej do oznaczania, cm

background image

5. FOTOKATALITYCZNA DEGRADACJIA FENOLU W WODNEJ 
ZAWIESINIE TiO

 

5.1. Cel ćwiczenia 

 

Celem ćwiczenia jest zbadanie i porównanie aktywności fotokatalitycznej dwóch odmian 

dwutlenku tytanu: anatazu i rutylu. 
 

5.2. Aparatura i sprzęt 

 

1. Zestaw aparatury do utleniania (rys. 4) 
2. Kolorymetr spektralny "Spekol" z przystawką do pomiaru absorpcji 
3. Waga analityczna 
4. Wirówka 
5. Szkło i odczynniki 
 

5.3. Budowa i działanie aparatury do utleniania fotokatalitycznego 

 

Do badania kinetyki utleniania fenolu stosuje się zestaw aparatury przedstawiony na 

rys.3. Źródłem promieniowania UV jest średniociśnieniowa lampa rtęciowa /1/ (150 W) firmy 
Heraeus umieszczona centralnie w szklanym reaktorze /2/Lampa umieszczona jest w osłonie 
kwarcowej z płaszczem chłodzącym /3/.  Lampę UV uruchamiamy włącznikiem /4/ oraz /5/ 
umieszczonymi na zasilaczu /6/Badany roztwór mieszany jest podczas utleniania za pomocą 
mieszadła magnetycznego. Próbki badanego roztworu pobieramy przez króćce /7/ za pomocą 
specjalnie przygotowanego próbnika. 
 

5.4. Sposób prowadzenia pomiarów 

 

Fotokatalityczna degradacja fenolu w układzie UV/TiO

2

  

 
Sposób przeprowadzenie pomiarów jest następujący: 
a) napełnić reaktor modelowym roztworem fenolu o stężeniu 50 mg/dm

do objętości 1 dm

3

b) do roztworu fenolu dodać katalizator (dwutlenek tytanu w formie anatazu lub rutylu) w ilości 
1 g/dm

3

c) lampę rtęciową wraz z kwarcową obudową umieścić w reaktorze, 
d) włączyć mieszadło magnetyczne i ustawić żądaną prędkość obrotów, 
e) otworzyć zawór doprowadzający wodę do płaszcza chłodzącego lampy UV, 
f) szczelnie osłonić powierzchnię reaktora folią aluminiową, 
g) włączyć lampę UV ustawiając włącznik /4/ w pozycji "l" i przytrzymując włącznik 151 
pozycji "start" przez 30 s, 
h) utlenianie prowadzić przez 30 min. pobierając próbki roztworu o objętości 15 cm

3

 

co 10min, 

(10 cm

3

 

przeznaczyć do oznaczania fenolu), 

i) w celu zakończenia procesu utleniania należy; 
• wyłączyć lampę UV ustawiając włącznik /4/ w pozycji "O", 

• zamknąć zawór doprowadzający wodę do płaszcza chłodzącego lampy.

background image

5.5. Analityczna kontrola procesu 

 

Oznaczanie fenolu w ściekach 
 

Oznaczanie fenolu polega na sprzęganiu fenolu z dwuazowaną p-nitroaniliną w roztworze 

alkalicznym. Powstający barwny związek oznacza się kolometrycznie (długość fali 480 nm).  
 
Odczynniki: 

1. roztwór p-nitroaniliny – 0,69 g p-nitoaniliny rozpuścić w 6,5 cm

3

 stężonego (36%) kwasu 

solnego na gorąco i rozcieńczyć do objętości l dm

3

 wodą destylowaną, 

2. roztwór 1N Na

2

CO

3

 - rozpuścić 53,1 g krystalicznej sody w wodzie destylowanej i dopełnić 

do kreski w kolbie miarowej o pojemności l dm

3

3. 2% roztwór azotynu sodowego.  
Wykonanie oznaczenia: 

Roztwory do wykonania krzywej wzorcowej w granicach stężeń l - 10 mg fenolu na l dm

3

 

roztworu sporządza się następująco: do kolby miarowej o objętości 100 cm

3

 wlewa się 

określoną ilość wzorcowego roztworu fenolu i dodaje kolejno 15 cm

3

 PNA i 4 cm

3

 roztworu 

azotynu sodowego. Po dokładnym wytrząsaniu i ochłodzeniu dodaje się 30 cm

3

 roztworu 

węglanu sodowego, uzupełnia się do kreski wodą destylowaną, po czym mierzy na Specolu 11 
absorbancję. Dla wyeliminowania wpływu substancji mineralnych i organicznych zawartych w 
wodzie wodociągowej roztwory z fenolu należy przygotować w wodzie destylowanej. Stężenie 
fenolu w próbkach poreakcyjnych oznacza się jak wyżej pobierając 10 cm

3

 roztworu. 

Tabela 2.

 Wyniki pomiarów i obserwacji utleniania fenolu 

Czas utleniania 

[min.] 

Absorbancja 

 

Stężenie fenolu  

[mg/dm

3

Ocena wizualna 

roztworu (barwa) 

Katalizator:......................................(c

o

=..................................mg/dm

3

 

 

 

 

 

background image

 

24

 

Rysunek 9 Schemat aparatury do utleniania fotokatalitycznego. 

1 – lampa rtęciowa średniociśnieniowa 
2 – reaktor 
3 – kwarcowa osłona z płaszczem chłodzącym 
4 – włącznik A 
5 – włącznik B 
6 – zasilacz 

background image

6. OZONOWANIE FENOLU - PODSTAWY TEORETYCZNE 

6.1. Cel ćwiczenia 

 

          Celem  ćwiczenia jest wyznaczenie wydajności generatora ozonu w funkcji napięcia 
prądu elektrycznego oraz natężenia przepływu gazu przez reaktor, a następnie zbadanie 
kinetyki utleniania roztworu wodnego fenolu w zadanych warunkach procesu. 
 

6.2. Aparatura i sprzęt 

 

1. Zestaw aparatury do ozonowania według rys. 2 
2. Kolorymetr spektralny "Spekol" z przystawką do pomiaru absorpcji 
3. Waga analityczna 
4. Waga techniczna 
5. Szkło i odczynniki 

 

6.3. Budowa i działanie aparatury do ozonowania 

 

          Do  pomiaru  wydajności generatora ozonu oraz badania kinetyki utleniania fenolu 
stosuje się zestaw aparatury przedstawiony schematycznie na rys.2. Ozon jest wytwarzany w 
generatorze /4/ opartym na cichych wyładowaniach elektrycznych. Wydajność generatora 
reguluje się przez zmianę natężenia przepływu gazu. Źródłem powietrza lub tlenu 
dostarczanego do ozonatora jest butla /1/. Natężenie przepływu gazu reguluje się za pomocą 
reduktora umieszczonego na butli. Chwilowe natężenie przepływu gazu odczytuje się z 
rotametru /2/ zaś całkowita ilość przepuszczonego gazu z licznika /10/. Nawilgocenia gazu 
pozbywa się przepuszczając go przez płuczkę z żelem krzemionkowym. Ozonator podłączony 
jest do autotransformatora, a napięcie i natężenie prądu pierwotnego mierzy się za pomocą 
woltomierza /6/ i amperomierza /5/. Napięcie wtórne dane jest zależnością (przekładnia 
transformatora): U

w

  = 36 U

p

. Utlenianie roztworu fenolu prowadzi się w reaktorze /7/. 

          Opory  przepływu gazu przez aparaturę i reaktor pokonywane są dzięki     
podwyższonemu ciśnieniu gazu podawanego z butli, należy jednak uważać aby nie 
przekraczały one 0.5x10

5

 Pa. 

 

6.4. Sposób przeprowadzenia pomiarów 

 

Badanie wydajności generatora ozonu

 

          Podczas badania wydajności generatora ozonu należy zadbać o czystość doprowadzanego 
gazu oraz stałość parametrów procesu (natężenie przepływu gazu, zawartość tlenu w gazie, 
napięcie i częstotliwość prądu). Zakłada się, że podczas jednego cyklu pomiarów nie zachodzi 
wyraźne zużycie się generatora objawiające się stopniowym spadkiem wydajności wytwarzania 
ozonu.  
Sposób postępowania przy badaniu wydajności generatora ozonu jest następujący: 

a)  napełnić płuczki /9/ do 1/3 wysokości roztworem KJ i zamontować w aparaturze, 
b)  zawór odprowadzający ozon do wyciągu ustawić  w  pozycji  otwartej,  zawory        

odprowadzające ozon do płuczek i do kolumny barbotażowej w pozycji zamkniętej, 

c)  ustawić żądany strumień objętości powietrza (tlenu) w przedziale od 60 do 200 dm

3

/h, 

background image

 

26

 

Rysunek 10 Schemat zestawu do ozonowania. 

 
  1 – butla ze sprężonym powietrzem 
  2 – rotametr 
  3 – osuszacz gazu 
  4 – generator ozonu 
  5 – amperomierz  
  6 – woltomierz  
  7 – reaktor  
  8 – płuczka do pochłaniania nieprzereagowanego O

3

 

  9 – płuczki z roztworem KI 
10 – licznik gazowy 

 

d)  nastawić za pomocą autotransformatora napięcie  pierwotne,  wskazywane  przez      

woltomierz/6/; od siedmiu do 10 wartości w przedziale 50-240 V, np.: 60, 90, 110, 150, 
180, 210, 230 V, 

e)  przepuszczać gaz przez generator przez 5 min., 
f)  otworzyć zawór doprowadzający ozon do płuczek /9/ i jednocześnie zamknąć  zawór      

prowadzący do wyciągu, 

g)  zanotować stan licznika /6/ i włączyć zegar. Ozonowanie prowadzić przez 5 lub 10 min. 

dla   kilku wartości strumienia objętości gazu, np.: 60, 90, 120, 150, 180 dm

3

/h, 

UWAGA: w czasie pomiarów należy obserwować rotametr /4/ i woltomierz /8/ czy zachowane 
są zadane wartości natężenie przepływu gazu i napięcia prądu elektrycznego. Natężenie prądu 
w obwodzie pierwotnym nie powinno przekraczać 2 A. 

h)  po zakończeniu ozonowania zanotować stan licznika /l0/, otworzyć zawór do wyciągu,        

background image

 

27

zamknąć zawór doprowadzający ozon do płuczek /9/. W przypadku kontynuowania 
pomiaru i skierowania gazu z ozonem do reaktora /7/ otworzyć zawór doprowadzający 
ozon do  reaktora i zamknąć zawór prowadzący do wyciągu,  

i)  odłączyć płuczki /9/ od aparatury i oznaczyć w nich jod. Wyniki pomiarów przedstawić 

w tabeli według wzoru: 

 

Tabela. 3.

 Wyniki badania wydajności generatora ozonu 

Objętość 

przepuszczonego gazu 

[dm

3

 

Napięcie 

wtórne 

[V] 

 

Czas 

pomiaru 

 [min.] 

 

wg licznika

 

wg 

rotametru 

Objętość 

Na

2

S

2

O

3

 

............M 

[cm

3

 

Zawartość 

ozonu w 

gazie 

[mg/dm

3

[% objęt.] 

 

Wydajność 

generatora 

ozonu  

[g/h] 

 

Założony strumień objętości gazu .................... dm

3

/h 

 

 

 

 

 

 

 

Utlenienie roztworu fenolu

 

         Pomiar  kinetyki  utleniania fenolu w reaktorze poprzedza pomiar wydajności ozonatora 
przy zadanych wartościach natężenie przepływu gazu i napięcia prądu zgodnie z procedurą 
podaną w poprzednim punkcie.  
Sposób przeprowadzania pomiarów jest następujący: 

a)  napełnić płuczkę /8/ roztworem KJ do 1/3 wysokości, 
b)  napełnić reaktor III modelowym roztworem fenolu o stężeniu ok. 50 mg/dm

3

 do 

objętości 2 dm

3

. Roztwór należy uprzednio przygotować z wody destylowanej i 

odpowiedniej ilości fenolu dodając kwas borowy do stężenia 0.05 m (3.1 g kwasu na 
dm

3

 wody) i doprowadzając odczyn do pH = 9 za pomocą NaOH. Uzyskany układ 

buforowy zapewnia utrzymanie środowiska reakcji na poziomie pH =9, 

c)  badania można prowadzić również z modelowym roztworem fenolu bez dodatku kwasu 

borowego, przy czym wyjściowe pH powinno znajdować się w przedziale 10-12, 

d)  wykonać pomiar wydajności generatora ozonu, 
e)  otworzyć zawór doprowadzający ozon do reaktora /7/ i jednocześnie zamknąć zawór 

odprowadzający do wyciągu. Uregulować natężenie przepływu gazu z uwagi na zmianę 
oporów przepływu. Zakłada się, że aparatura jest w ruchu po wcześniejszym pomiarze 
wydajności ozonatora, 

f)  ozonowanie prowadzić przez 20 min. pobierając próbki roztworu do kolbek miarowych 

o objętości 25 cm

3

 co 5 min., z czego 10 cm

3

 przeznaczyć do oznaczania fenolu. Co 5 

minut - należy zmienić płuczkę /8/ z roztworem KJ,  

g)  w celu zakończenia procesu ozonowania należy: 

-  otworzyć zawór do wyciągu i jednocześnie zamknąć zawór doprowadzający 

ozon do reaktora, 

-  wyłączyć zasilanie generatora ozonu w wysokie napięcie, 
-  po 2 minutach przerwać przepływ powietrza (tlenu), 
-  odłączyć ostatnią płuczkę z roztworem KJ /8/ od aparatury i oznaczyć jod 
-  opróżnić reaktor i przemyć go wodą destylowaną. 

 Wyniki pomiarów zebrać zestawić w tabeli według wzoru: 

 

background image

 

28

Tabela

 4. Wyniki pomiarów i obserwacji procesu utleniania fenolu ozonem 

natężenie przepływu gazu .......................... dm

3

/h 

napięcie ...................................................... V 
temperatura ................................................ °C 
zawartość O

3

 w gazie ................................. mg/dm

3

 

opory przepływu w gazie ........................... mmHg 

 

Ocena wizualna procesu 

 
 
 
 

Czas 

[min.] 

 
 
 
 
 

Absorba 

ncja 

 
 
 
 
 
 

Stężenie 

fenolu 

[mg/dm

3

]

 

 
 
 
 
 

Wykorzy

stanie 

ozonu 

[%]

 

 
 
 
 

barwa 

roztworu 

 
 

wielkość 

pęcherzyków 

gazu 

 

powstawanie 

piany 

 
 

zmętnienie 

roztworu 

 
 

 

 

 

 

 

 

 

 

6.5. Analityczna kontrola procesu 
Oznaczanie ozonu w gazie

 

Stężenie ozonu w gazie oznacza się metodą jodometryczną. Podstawą oznaczania są reakcje: 
2 KJ + O

3

  + H

2

O = J

2

 + 2 KOH + O

2

 

J

2

 + 2 Na

2

S

O

3

 = 2 NaJ + Na

2

S

4

O

6

 

 

Odczynniki: 
1. 0,5 N roztwór tiosiarczanu sodowego, 
2. kwas siarkowy rozcieńczony 1:4, 
3. 1% roztwór skrobi  
Wykonanie oznaczenia: 
Po przepuszczeniu określonej ilości mieszaniny gazowej, zawartość  płuczek zakwasić 
rozcieńczonym kwasem siarkowym i odmiareczkować wolny jod roztworem tiosiarczanu 
sodowego wobec skrobi jako wskaźnika. Stężenie ozonu w mieszaninie z powietrzem lub 
tlenem wyliczyć ze wzoru: 

V

f

a

O

=

24

]

[

3

[mg O

3

/dm

3

 

 
Oznaczanie fenolu w ściekach

 

Oznaczanie fenolu polega na sprzęganiu fenolu z dwuazowaną p-nitroaniliną w roztworze 
alkalicznym. Powstający barwny związek oznacza się kolometrycznie (długość fali 480 nm). 
Odczynniki: 
1. roztwór p-nitroaniliny – 0,69 g p-nitoaniliny rozpuścić w 6,5 cm

3

 stężonego (36%) kwasu 

solnego na gorąco i rozcieńczyć do objętości l dm

3

 wodą destylowaną, 

2. roztwór 1 N Na

2

CO

3

  - rozpuścić 53,1 g krystalicznej sody w wodzie destylowanej i dopełnić 

do kreski w kolbie miarowej o pojemności l dm

3

3. 2% roztwór azotynu sodowego. 

Wykonanie oznaczenia: 
          Roztwory  do  wykonania  krzywej  wzorcowej  w  granicach  stężeń l - 10 mg fenolu na 
l dm

3

 roztworu sporządza się następująco: do kolby miarowej o objętości 100 cm

3

 wlewa się 

określoną ilość wzorcowego roztworu fenolu i dodaje kolejno 15 cm

3

 PNA i 4 cm

3

 roztworu 

gdzie: 

a - ilość l N Na

2

S

2

O

3

, cm

3

 

f - współczynnik przeliczenia miana Na

2

S

O

3

 

V - ilość przepuszczonego powietrza, dm

 

background image

 

29

azotynu sodowego. Po dokładnym wytrząsaniu i ochłodzeniu dodaje się 30 cm

3

  roztworu      

węglanu sodowego, uzupełnia się do kreski wodą destylowaną, po czym mierzy na Specolu 11 
absorbancję. Dla wyeliminowania wpływu substancji mineralnych i organicznych zawartych w 
wodzie wodociągowej roztwory z fenolu należy przygotować w wodzie destylowanej. Stężenie 
fenolu w próbkach poreakcyjnych oznacza się jak wyżej pobierając 10 cm

3

 roztworu.