background image

1

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

„Mikro- i nanotechnologie”

„2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci 

w procesach mikro- i nanotechnologii” 

Prezentacja jest współfinansowana przez 

Uni

ę

 Europejsk

ą

 w ramach 

Europejskiego Funduszu Społecznego w projekcie pt.

Innowacyjna  dydaktyka bez ogranicze

ń

  - zintegrowany  rozwój Politechniki  Łódzkiej  -

zarz

ą

dzanie  Uczelni

ą

, nowoczesna  oferta edukacyjna  i wzmacniania  zdolno

ś

ci  do 

zatrudniania  osób niepełnosprawnych

Prezentacja dystrybuowana jest bezpłatnie

„Mikro- i nanotechnologie”

„2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci 

w procesach mikro- i nanotechnologii” 

Prezentacja jest współfinansowana przez 

Uni

ę

 Europejsk

ą

 w ramach 

Europejskiego Funduszu Społecznego w projekcie pt.

Innowacyjna  dydaktyka bez ogranicze

ń

  - zintegrowany  rozwój Politechniki  Łódzkiej  -

zarz

ą

dzanie  Uczelni

ą

, nowoczesna  oferta edukacyjna  i wzmacniania  zdolno

ś

ci  do 

zatrudniania  osób niepełnosprawnych

Prezentacja dystrybuowana jest bezpłatnie

Politechnika Łódzka, ul. 

Ż

eromskiego 116, 90-924 Łód

ź

, tel. (042) 631 28 83

www.kapitalludzki.p.lodz.pl

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

2

Czynniki wpływaj

ą

ce na procesy technologiczne

Czynniki wpływaj

ą

ce na procesy technologiczne

Zanieczyszczenie powietrza drobinami

Skład powietrza

Ci

ś

nienie

Temperatura i wilgotno

ść

Poziom hałasu i wibracji

Pole elektromagnetyczne

Pole elektrostatyczne

Clean-room

pełna kontrola warunków wytwarzania struktur 

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

3

- pojedyncze molekuły

- zanieczyszczenia powierzchniowe

- zanieczyszczenia pyłowe

Rodzaje zanieczyszcze

ń

Rodzaje zanieczyszcze

ń

background image

2

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

4

- gazowanie (np. podczas stygni

ę

cia)

- pary oleju (np. z pomp dyfuzyjnych)

- alkohol

- farby, kleje, 

ż

ywice

- substancje aromatyczne (obecno

ść

 wyczuwalnego 

zapachu jest równoznaczna z obecno

ś

ci

ą

 cz

ą

stek 

zanieczyszczaj

ą

cych)

Ź

ródła zanieczyszcze

ń

 molekularnych

Ź

ródła zanieczyszcze

ń

 molekularnych

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

5

- odciski palców

- pot

- kremy do r

ą

k, twarzy

- puder

-

ś

rodki czyszcz

ą

ce

- oleje i smary

- wosk

Ź

ródła zanieczyszcze

ń

 powierzchniowych

Ź

ródła zanieczyszcze

ń

 powierzchniowych

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

6

- ludzie (skóra, włosy, oddech, włókna z odzie

ż

y)

- materiały generuj

ą

ce pył (tekturowe pudełka, papier)

- obróbka mechaniczna materiałów (wiercenie, ci

ę

cie, 

polerowanie)

- przedmioty z niezabezpieczonego drewna

Ź

ródła zanieczyszcze

ń

 pyłowych

Ź

ródła zanieczyszcze

ń

 pyłowych

background image

3

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

7

Wi

ę

kszo

ść

 zanieczyszcze

ń

 jest zbyt mała, 

aby mo

ż

na je zaobserwowa

ć

 okiem nieuzbrojonym. 

Rozmiary zanieczyszcze

ń

Rozmiary zanieczyszcze

ń

włos ludzki (100µm)

krytyczne 

zanieczyszczenie

w clean-roomie 

(0,5µm)

najmniejsza cz

ą

stka 

widoczna okiem 

nieuzbrojonym

(50µm)

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

8

Rodzaje i rozmiary zanieczyszcze

ń

Rodzaje i rozmiary zanieczyszcze

ń

0,001                0,01                  0,1                     1                      10                   100

mikrometry

dym i pył przemysłowy

pył atmosferyczny

atomy i cz

ą

steczki

bakterie

dym papierosowy

wirusy

cz

ą

stki 

widoczne

pyłki kwiatów

dym z kalafonii

muł

pigment farb

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

9

Zanieczyszczenia wywołane aktywno

ś

ci

ą

 człowieka

Zanieczyszczenia wywołane aktywno

ś

ci

ą

 człowieka

Rodzaj aktywno

ś

ci

Generacja 

cz

ą

stek*

Stanie / siedzenie w bezruchu

100 000

Ruch głow

ą

, dłoni

ą

500 000

Ruch tułowiem, nog

ą

1 000 000

Przej

ś

cie z pozycji siedz

ą

cej do stoj

ą

cej

2 500 000

Chodzenie

do 10 000 000

* cz

ą

stki o rozmiarze powy

ż

ej 0,3µm

background image

4

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

10

Zanieczyszczenia wywołane aktywno

ś

ci

ą

 człowieka

Zanieczyszczenia wywołane aktywno

ś

ci

ą

 człowieka

Rozmiar 

zanieczyszcze

ń

Kichanie

Kasłanie

do 1µm

800 000

66 000

1 - 2 µm

686 000

21 000

2 - 4 µm

280 000

1 600

4 - 8 µm

134 000

1 290

8 - 16 µm

36 000

490

powy

ż

ej 16 µm

4 500

85

Razem:

1 940 000

90 765

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

11

Przykłady zanieczyszcze

ń

 

Przykłady zanieczyszcze

ń

 

• Nawet najczystsze, górskie 

powietrze zawiera w 1 m

3

około 

miliona 

ż

norodnych 

zanieczyszcze

ń

 o rozmiarach

powy

ż

ej 1 µm

• Obiekty o rozmiarach poni

ż

ej 10µm: 

zamiast grawitacji dominuje 
elektrostatyka 

• Dla struktur o wymiarze rz

ę

du 1 µm 

ka

ż

de zanieczyszczenie o 

porównywalnych rozmiarach jest 
kataklizmem!

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

12

Przykłady zanieczyszcze

ń

Przykłady zanieczyszcze

ń

Czerwone krwinki na module 

pami

ę

ci 1Mbit

Paj

ę

czyna na module 

pami

ę

ci 256k DRAM

background image

5

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

13

Przykłady zanieczyszcze

ń

 

Przykłady zanieczyszcze

ń

 

• włosy

• skóra

• oddech

• włókna pochodzące z ubrań

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

14

Przykłady zanieczyszcze

ń

Przykłady zanieczyszcze

ń

Włos na module pami

ę

ci:

256kbit 

4Mbit

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

15

Przykłady zanieczyszcze

ń

Przykłady zanieczyszcze

ń

Kropla aluminium

Zanieczyszczenie pochodzenia 

biologicznego

background image

6

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

16

Definicja klasy czysto

ś

ci clean-roomu

Definicja klasy czysto

ś

ci clean-roomu

Clean-room klasy (n) jest zdefiniowany jako pomieszczenie,

w którym powietrze zawiera nie wi

ę

cej ni

ż

 (n) cz

ą

stek 

zanieczyszcze

ń

 o rozmiarze równym lub wi

ę

kszym od 0,5µm

w jednej stopie sze

ś

ciennej

gdzie = 10 000, 1000, 100, itd.

Standardy stosowane na 

ś

wiecie:

USA: 

FED STD 209E  (1992)

Japonia:

B9920

(1989)

Australia:

AS1386

(1989)

Francja:

X44101

(1981)

Wlk. Brytania: 

BS5295

(1989)

Niemcy: 

VDI2083

(1990)

Rosja:

Gost–R50766

(1995)

zast

ą

pione norm

ą

 

mi

ę

dzynarodow

ą

 

ISO 14644-1 (1997)

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

17

Klasyfikacja wg norm ameryka

ń

skich

Klasyfikacja wg norm ameryka

ń

skich

wymiar zanieczyszcze

ń

 [

µµµµ

m] 

Klasa 

0,1 

0,2 

0,3 

0,5 

5,0 

35 

7,5 

NA 

10 

350 

75 

30 

10 

NA 

100 

NA 

750 

300 

100 

NA 

1 000 

NA 

NA 

NA 

1 000 

10 000 

NA 

NA 

NA 

10 000 

70 

100 000 

NA 

NA 

NA 

100 000 

700 

 
 

Przykładowa klasyfikacja wg norm ameryka

ń

skich

FED STD 209E

obowi

ą

zuj

ą

cych do roku 2001 

(ilo

ść

 zanieczyszcze

ń

 w 1 stopie sze

ś

ciennej):

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

18

Normy ISO dotycz

ą

ce pomieszcze

ń

 clean-room

Normy ISO dotycz

ą

ce pomieszcze

ń

 clean-room

Standard

Nazwa

ISO-14644-1

Klasyfikacja czysto

ś

ci powietrza

ISO-14644-2

Zasady kontroli czysto

ś

ci powietrza

ISO-14644-3

Metody okre

ś

lania i pomiarów czysto

ś

ci powietrza 

ISO-14644-4

Projektowanie i budowa

ISO-14644-5

Zasady pracy i działania

ISO-14644-6

Poj

ę

cia, definicje, jednostki miar

ISO-14644-7

Inne, niezale

ż

ne od cleanroom’u urz

ą

dzenia 

ISO-14644-8

Zanieczyszczenia i ska

ż

enia

ISO-14698-1

Biozanieczyszczenia: generalne zasady post

ę

powania

ISO-14698-2

Biozanieczyszczenia: okre

ś

lanie zanieczyszcze

ń

ISO-14698-3

Biozanieczyszczenia: pomiar efektywno

ś

ci urz

ą

dze

ń

 czyszcz

ą

cych

background image

7

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

19

Normy ISO

Normy ISO

Klasa

Liczba drobin w 1 m

3

powietrza

0.1 um

0.2 um

0.3 um

0.5 um

1 um

5 um

ISO 1

10

2

ISO 2

10

2

24

10

4

ISO 3

10

3

2.37*10

2

1.02*10

2

35

8

ISO 4

10

4

2.37*10

3

1.02*10

3

3.52 *10

2

83

ISO 5

10

5

2.37*10

4

1.02*10

4

3.52 *10

3

8.32 *10

2

29

ISO 6

10

6

2.37*10

5

1.02*10

5

3.52 *10

4

8.32 *10

3

2.93 *10

2

ISO 7

3.52 *10

5

8.32 *10

4

2.93 *10

3

ISO 8

3.52 *10

6

8.32 *10

5

2.93 *10

4

ISO 9

3.52 *10

7

8.32 *10

6

2.93 *10

5

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

20

Porównanie norm ISO i FED

Porównanie norm ISO i FED

ISO 14644-1 (1997)

FED STD 209E (1992)

Klasa ISO

Jedn. angielskie

Jedn. metryczne

1

2

3

1

M1.5

4

10

M2.5

5

100

M3.5

6

1 000

M4.5

7

10 000

M5.5

8

100 000

M6.5

9

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

21

Wymiar charakterystyczny a klasa czysto

ś

ci

Wymiar charakterystyczny a klasa czysto

ś

ci

Rok

1980

1984

1987

1990

1993

1996

1999

2000

Wymiar 
charakterystyczny

2um

1.5um

1um

0.8um

0.5um

0.35um

0.25um

0,13um

Powierzchnia 
układu

0.3cm

2

0.4cm

2

0.5cm

2

0.9cm

2

1.4cm

2

2.0cm

2

3.0cm

2

>4cm

2

Liczba procesów

100

150

200

300

400

500

600

>700

Klasa czysto

ś

ci

ISO 8

ISO 7

ISO 6

ISO 5

ISO 4

ISO 3

ISO 2

ISO 1

Krytyczny rozmiar 
zanieczyszczenia

0.12um

0.09um

0.05um

0.03um

0.02um

Krytyczny rozmiar 
defektu

0.27um

0.18um

0.1um

0.06u

0.03um

background image

8

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

22

Koncepcja pomieszczenia typu clean-room

Koncepcja pomieszczenia typu clean-room

ci

ą

gła, wielostopniowa filtracja 

wtłaczanego powietrza pocz

ą

wszy od 

filtrów wst

ę

pnych po filtry HEPA (High 

Efficiency Air Filters) b

ą

d

ź

 ULPA (Ultre 

Low Penetration Air)

stałe nadci

ś

nienie wewn

ą

trz 

pomieszcze

ń

 (ok. 30Pa) – brak 

mo

ż

liwo

ś

ci przedostawania si

ę

 

zanieczyszcze

ń

 z zewn

ą

trz

ś

luza wej

ś

ciowa

w celu utrzymania stałego składu 
atmosfery dodawane jest od 2 do 10% 

ś

wie

ż

ego powietrza 

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

23

Filtry

Filtry

HEPA (High Efficiency 
Air Filters
) –
skuteczno

ść

 do 99.97% 

dla cz

ą

stek > 0,3µm

ULPA (Ultre Low 
Penetration Air
) –
skuteczno

ść

 do 

99,9995% dla cz

ą

stek 

> 0,12 µm

http://en.wikipedia.org/wiki/HEPA

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

24

Niezale

ż

nie od pory roku i pory dnia:

• temperatura 22 ± 0.1 ºC w pomieszczeniach 

litografii i pomiarowych, 22 ± 0.5 ºC w 
pozostałych pomieszczeniach

• wilgotno

ść

 43% ± 2% w pomieszczeniach 

litografii i pomiarowych, 43% ± 5% w 
pozostałych pomieszczeniach

Parametry powietrza w clean-roomie

Parametry powietrza w clean-roomie

background image

9

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

25

Poziom hałasu ograniczony do poziomu nie 
przekraczaj

ą

cego 60 dB.

Wibracje z zakresu 8 – 100 Hz nie powinny 
przekracza

ć

 3µm/s

Ekranowanie całego pomieszczenia i stref wewn

ą

trz na 

zasadzie klatki Faraday’a

Eliminacja ryzyka powstania niebezpiecznego pola 
elektrostatycznego poprzez uziemianie maszyn, 
kontrol

ę

 wilgotno

ś

ci, system jonizacji powietrza oraz 

wykorzystanie przewodz

ą

cych materiałów do 

konstrukcji laboratorium.

Pozostałe parametry

Pozostałe parametry

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

26

Instalacje w clean-roomie

Instalacje w clean-roomie

• System oczyszczania powietrza
• System zasilania oraz chłodzenia urz

ą

dze

ń

• Zasilanie w wod

ę

 zimn

ą

 (14…18 ºC)

• Zasilanie w wod

ę

 gor

ą

c

ą

 (~70 ºC)

• System dejonizacji wody (rezystywno

ść

 powy

ż

ej 16M

)

• System doprowadzaj

ą

cy czyste odczynniki płynne (m.in. gazy 

technologiczne o czysto

ś

ci >5N)

• System odprowadzania i neutralizacji zu

ż

ytych odczynników 

płynnych (gazy, ciecze po procesach produkcyjnych)

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

27

Turbulentny przepływ powietrza

Turbulentny przepływ powietrza

ź

ródło: Cleanroom Design, W. W hyte, J. W iley 2001

background image

10

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

28

Laminarny przepływ powietrza

Laminarny przepływ powietrza

ź

ródło: Cleanroom Design, W. W hyte, J. W iley 2001

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

29

Lokalne podwy

ż

szenie czysto

ś

ci

Lokalne podwy

ż

szenie czysto

ś

ci

ź

ródło: Cleanroom Design, W. W hyte, J. W iley 2001

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

30

Lokalne podwy

ż

szenie czysto

ś

ci

Lokalne podwy

ż

szenie czysto

ś

ci

ź

ródło: Cleanroom Design, W. W hyte, J. W iley 2001

background image

11

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

31

Clean-room – szczegóły pomieszcze

ń

Clean-room – szczegóły pomieszcze

ń

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

32

Strefa biała i szara

Strefa biała i szara

Strefa biała jest obszarem o założonej 

czystości – jej powierzchnia jest ograniczana do 

niezbędnego minimum ze  względów 

ekonomicznych 

Strefa „szara” wokół clean-roomu obejmuje 

zaplecze techniczne: urządzenia wspomagające, 

elementy urządzeń technologicznych,

instalacje wodne, powietrzne itp.

Ś

luza wejściowa umożliwia zakładanie ubioru 

ochronnego i zabezpiecza przed 

zanieczyszczeniem laboratorium podczas wejść i 

wyjść personelu

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

33

Clean-room - przekrój

Clean-room - przekrój

Clean-room klasy ISO3 (Siemens) 

background image

12

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

34

Clean-room – strefa szara

Clean-room – strefa szara

System pomp

Instalacja wodna

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

35

System dejonizacji wody

System dejonizacji wody

Oczyszczanie wody dla potrzeb mikrotechnologii:

uzdatnianie wst

ę

pne, filtr mechaniczny 50

µ

m (1,2)

odwrócona osmoza (3-11)

moduł elektrodejonizacji z komor

ą

UV (12)

cela konduktometryczna (13) 

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

36

Ubranie ochronne

Ubranie ochronne

- wykonywane z poliestru (bez „kłaczków’), z nici

ą

 

przewodz

ą

c

ą

- dopasowane do wzrostu / wagi

- przykrywaj

ą

ce maksymaln

ą

 powierzchni

ę

 ciała

- wyposa

ż

one w 

ś

ci

ą

gacze na ko

ń

cach r

ę

kawów, 

nogawek

- bez kieszeni, pasków

- kolejno

ść

 zakładania: kombinezon - ochraniacze 

obuwia - nakrycie głowy - maska twarzowa –
okulary – r

ę

kawice

- tylko do u

ż

ytku w clean-roomie 

(zakładanie/zdejmowanie w odpowiednim 
pomieszczeniu)

background image

13

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

37

Ubranie ochronne

Ubranie ochronne

http://www.ee.byu.edu/cleanroom/gowning.phtml?gowning-see-all=true

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

38

Wej

ś

cie tylko w prawidłowo zało

ż

onym kombinezonie ochronnym

Zakaz picia, jedzenia, 

ż

ucia gumy, palenia papierosów

Zakaz noszenia ozdób (naszyjniki, pier

ś

cionki), u

ż

ywania niektórych 

kosmetyków 

Ograniczenie wykonywania szybkich ruchów

Nie zakłócanie obiegu powietrza (np. poprzez nieprzemy

ś

lane 

zastawienie nawiewów/wyci

ą

gów)

Minimalizacja ilo

ś

ci materiałów przechowywanych w clean-romie

Zakaz u

ż

ywania ołówków, gumek, przedmiotów z drewna, zwykłego 

papieru, styropianu, wszelkiego rodzaju materiałów sproszkowanych

Zasady pracy w clean-roomie

Zasady pracy w clean-roomie

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

39

Stosowane materiały

Stosowane materiały

Sufity, 

ś

ciany,

podłogi, ubrania:

• antyelektrostatyczne

• bezpyłowe

• o gładkiej powierzchni 

Elementy stykaj

ą

ce si

ę

 z płytkami:

• kwarc, polikrzem (wysokie temperatury)
• teflon (mycie, trawienie)
• polerowana stal nierdzewna (p

ę

sety 

elementy ci

ś

nieniowe, pró

ż

niowe, blaty)

background image

14

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci w 

procesach mikro- inanotechnologii

40

Skutki obecno

ś

ci zanieczyszcze

ń

 w mikrotechnologii

Skutki obecno

ś

ci zanieczyszcze

ń

 w mikrotechnologii

Dyslokacje 

powierzchniow

e

Przestrzenne 

zaburzenia

sieci

Defekty 

punktowe

Wtr

ą

cenia

Wtr

ą

cenie 

(metal)

Wywołane 

zaburzenie

sieci

• Dyslokacje, zaburzenia  

przestrzenne – zwarcia zł

ą

czy p-n, 

zaburzenia przepływu no

ś

ników 

ładunku

• Wtr

ą

cenia, defekty punktowe 

skracanie czasu 

ż

ycia no

ś

ników 

mniejszo

ś

ciowych i degradacja 

charakterystyk przyrz

ą

dów

• Pojedyncze wtr

ą

cenia w wyniku 

powtarzanych wielokrotnie cykli 
termicznych mog

ą

 powodowa

ć

 

rozległe defekty przestrzenne

• Atomy metali (Fe, Ni, Cr, Cu, Au, 

Pt) na powierzchni – m.in. 
degradacja obszarów bramkowych 
tranzystorów MOS

Projekt współfinansowany przez Uni

ę

 Europejsk

ą

 

w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

Politechnika Łódzka, ul. 

Ż

eromskiego 116, 90-924 Łód

ź

, tel. (042) 631 28 83

www.kapitalludzki.p.lodz.pl

„Mikro- i nanotechnologie”

„2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci 

w procesach mikro- i nanotechnologii” 

Prezentacja jest współfinansowana przez 

Uni

ę

 Europejsk

ą

 w ramach 

Europejskiego Funduszu Społecznego w projekcie pt.

Innowacyjna  dydaktyka bez ogranicze

ń

  - zintegrowany  rozwój Politechniki  Łódzkiej  -

zarz

ą

dzanie  Uczelni

ą

, nowoczesna  oferta edukacyjna  i wzmacniania  zdolno

ś

ci  do 

zatrudniania  osób niepełnosprawnych

Prezentacja dystrybuowana jest bezpłatnie

„Mikro- i nanotechnologie”

„2. Zagadnienia utrzymania czysto

ś

ci 

w procesach mikro- i nanotechnologii” 

Prezentacja jest współfinansowana przez 

Uni

ę

 Europejsk

ą

 w ramach 

Europejskiego Funduszu Społecznego w projekcie pt.

Innowacyjna  dydaktyka bez ogranicze

ń

  - zintegrowany  rozwój Politechniki  Łódzkiej  -

zarz

ą

dzanie  Uczelni

ą

, nowoczesna  oferta edukacyjna  i wzmacniania  zdolno

ś

ci  do 

zatrudniania  osób niepełnosprawnych

Prezentacja dystrybuowana jest bezpłatnie