Seminarium - referaty, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stopnia, SEMESTR 5, PODSTAWY INŻYNIERII MATERIAŁÓW, SEMINARUM


  1. Termodynamiczne funkcje stanu i potencjał chemiczny

  1. Termodynamika procesu krystalizacji

  1. Charakterystyka procesów osadzania z fazy gazowej - technologie CVD (Chemical Vapour Deposition) i PVD (Physical Vapour Deposition)

Do przypomnienia:

  1. prawa dyfuzji (I i II prawo Ficka), współczynnik dyfuzji, pojęcie gradientu stężeń

  2. przepływ burzliwy i laminarny - kryteria oceny (liczba Reynoldsa)

  3. jednostki ciśnienia i ich wzajemne relacje

  1. Materiały otrzymywane metodami CVD i PVD - właściwości i zastosowanie

  1. Proces spiekania w ujęciu termodynamicznym

  1. Transport masy w spiekaniu

  1. Transport masy w spiekaniu cd.

  1. Ewolucja porów w spiekaniu

  1. Rozrost ziarn

  1. Spiekanie w udziałem fazy ciekłej

Podstawy Inżynierii Materiałów (seminarium) - spis referatów TCH 2013/2014



Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
Projekt 2 - Ewa Litwinek, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I
stereometria - teoria, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I sto
Zadania bilanse, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stopnia,
Cwiczenie 53c, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stopnia, SE
Cwiczenie 11i, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stopnia, SE
kryształy egzamin 2009, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I st
Pytanianakolosach, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stopnia
Układ MgO-Al2O3-SiO2, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stop
wyniki zaliczenia w I term. gr 3.x, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stac
Cwiczenie 32f, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stopnia, SE
Cwiczenie 0f, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stopnia, SEM
Sprawozdanie JP, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stopnia,
Tablica przedzialy Ufnosci 1, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarn
Metody badan odpornosci korozyjnej, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stac
Całość, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stopnia, SEMESTR 2
Egzamin fizyka 31-35, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stop
Wstep 0, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stopnia, SEMESTR
Z5 - układ CaO-Al2O3-SiO2, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I
do druku lool, Akademia Górniczo - Hutnicza, Technologia Chemiczna, Studia stacjonarne I stopnia, SE

więcej podobnych podstron